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首页> 外文期刊>Chemical vapor deposition: CVD >Non-thermal Effect of Atmospheric-Pressure RF Cold Plasma on Photocatalytic Activity of As-deposited TiO_2 Film
【24h】

Non-thermal Effect of Atmospheric-Pressure RF Cold Plasma on Photocatalytic Activity of As-deposited TiO_2 Film

机译：常压射频冷等离子体对沉积态TiO_2薄膜光催化活性的非热效应

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TiO_2 film is deposited by atmospheric-pressure (AP), radio-frequency (RF), dielectric barrier discharge (DBD) plasma at a low power using titanium tetraisopropoxide (TTIP) and O_2 as the precursors. The morphology, optical properties, and crystalline structure of the as-deposited TiO_2 film are investigated by using scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), ultraviolet-visible (UV-vis) absorption spectroscopy, and Raman spectroscopy. The as-deposited TiO_2 film show high photocatalytic activity in complete oxidation of HCHO to CO_2 and degradation of stearic acid. The gas temperature in the RFDBD plasma is estimated to be at about 500K by the rotational temperature via optical emission spectroscopy (OES). The experimental results of amorphous TiO_2 film treated by the RF-DBD plasma further exclude the likelihood of thermal effects derived from the plasma on crystallization of TiO_2 film. It is confirmed that the non-thermal effect of the RF-DBD plasma on the high photocatalytic activity of the as-deposited TiO_2 film does exist.
机译：使用四异丙醇钛（TTIP）和O_2作为前体，通过大气压（AP），射频（RF），介电势垒放电（DBD）等离子体以低功率沉积TiO_2薄膜。通过扫描电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM），紫外可见（UV-vis）吸收光谱和拉曼光谱研究了沉积的TiO_2薄膜的形貌，光学性质和晶体结构。沉积的TiO_2薄膜在HCHO完全氧化为CO_2和硬脂酸降解方面显示出高的光催化活性。 RFDBD等离子体中的气体温度通过光学发射光谱（OES）的旋转温度估计约为500K。 RF-DBD等离子体处理的非晶TiO_2薄膜的实验结果进一步排除了等离子体产生的热效应对TiO_2薄膜结晶的影响。可以确认，确实存在RF-DBD等离子体对沉积的TiO_2薄膜的高光催化活性的非热效应。

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