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【24h】

Determination of interfacial tensions for Xe nanoprecipitates in Al at 300 K

机译：Al在300 K下Xe纳米沉淀的界面张力的测定。

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An expression for the Laplace pressure associated with a cuboctahedral (tetrakaidodecahedral)void having {111} and {200} facets is derived, which includes anisotropy of void facet energies. The result is compared with experiment at 300 K for the equilibrium size of the largest Xe nanocrystal, constrained within such voids in Al. From the largest Xe nanocrystal, the Al-Xe interfacial tensions are deduced by setting the corresponding calculated Laplace pressure equal to the equilibrium pressure for melting of Xe at 300 K, obtained from empirical bulk compression data. These interfacial tension values are 1.05 Jm~(-2) for {111} facets and 1.10 Jm~(-2) for {200} facets, deduced from the size of two large Xe nanoprecipitates. These values are believed to approximate closely the corresponding surface tensions for Al at 300 K.
机译：推导了与具有{111}和{200}面的立方八面体（四面十二面体）空隙相关的拉普拉斯压力的表达式，其中包括空隙面能量的各向异性。将结果与300 K下最大Xe纳米晶体平衡尺寸的实验结果进行了比较，该尺寸受限于Al中的此类空隙。从最大的Xe纳米晶体中，通过将相应的计算得出的拉普拉斯压力设定为等于300 K的Xe熔化的平衡压力（从经验性体积压缩数据获得），可以推导出Al-Xe界面张力。由两个大的Xe纳米沉淀物的尺寸推导得出，{111}面的界面张力值为1.05 Jm〜（-2），{200}面的界面张力值为1.10 Jm〜（-2）。这些值被认为非常接近300 K下Al的相应表面张力。

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