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首页> 外文期刊>Physica, B. Condensed Matter >The effect of roughness on the T-3-dewetting of molecular hydrogen
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The effect of roughness on the T-3-dewetting of molecular hydrogen

机译：粗糙度对分子氢T-3脱湿的影响

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Triple-point dewetting is a well-known behaviour of molecular hydrogen and other van der Waals systems like noble gases on a solid substrate. Recent theoretical and experimental investigations (Phys. Rev. Lett. 88 (2002) 55702) suggest that it is caused primarily by the roughness of the substrate. Strain induced due to the mismatch of the lattice constant of the substrate and the growing layers of the adsorbed materials is increased by the micro-roughness of the substrate which eventually leads to the growth of only a thin solid film of the adsorbate. The dominating role of the substrate roughness is demonstrated, e.g., by ellipsometric measurements on smooth Si surfaces (rms 0.15 nm), where a thicker solid hydrogen film than the 3 monolayers on "usual" substrates is observed. We present a way to modify and improve the surface quality of substrates for such wetting studies of solid van der Waals films. (C) 2003 Elsevier Science B.V. All rights reserved. [References: 6]
机译：三点除湿是分子氢和其他范德华系统（如稀有气体在固体基质上）的众所周知的行为。最近的理论和实验研究（Phys.Rev.Lett.88（2002）55702）表明，这主要是由基底的粗糙度引起的。由于基材的微观粗糙度而增加了由于基材的晶格常数与吸附材料的生长层不匹配而引起的应变，这最终导致仅吸附物的固体薄膜的生长。例如，通过在光滑的Si表面（rms 0.15nm）上的椭圆光度法测量，证明了衬底粗糙度的主要作用，其中观察到比“常规”衬底上的3个单层更厚的固体氢膜。我们提出了一种用于固体范德华膜湿润研究的改性和改善基材表面质量的方法。 （C）2003 Elsevier Science B.V.保留所有权利。 [参考：6]

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