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X-ray scattering study of porous silicon layers

机译：多孔硅层的X射线散射研究

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X-ray reflectivity is used to study the mesoscopic structure of porous silicon layers. For a porous silicon thin film, we present measurements of the specular and the diffuse scattering together with their best fits. The analysis of the scattered intensity within the distorted-wave Born approximation based on a model of rough fractal interface yields new structural information. Furthermore, an overview of experimental results obtained for several thick porous silicon samples (either as-formed or etched) is presented. The diffuse scattering exhibits characteristic effects due to large surface roughness and the porous structure. (C) 2000 Elsevier Science B.V. All rights reserved. [References: 11]
机译：X射线反射率用于研究多孔硅层的介观结构。对于多孔硅薄膜，我们介绍了镜面反射和漫散射的测量以及它们的最佳拟合。基于粗糙的分形界面模型对变形波波恩近似内的散射强度的分析产生了新的结构信息。此外，介绍了几种厚多孔硅样品（形成或蚀刻后）获得的实验结果的概述。由于较大的表面粗糙度和多孔​​结构，因此散射散射表现出特征性的效果。 （C）2000 Elsevier Science B.V.保留所有权利。 [参考：11]

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