Electron diffraction; Surface properties; Gallium arsenides; Crystal structure; Polishes; Annealing; Low energy; Reproducibility; Reprints; Low energy electron diffraction; Surface finishing;
机译:具有未裂解的InAs / GaAs量子点纳米结构的XSTM裂解样品的应变场比较
机译:GaAs(110)-ZnSe界面的LEED和AES表征
机译:Br {sub} 2-H {sub} 2O对GaAs(110)进行湿法化学刻蚀的XPS分析:渗透和模型实验的比较
机译:在AlGaAs / GaAs超晶格的110劈开面上生长的脊型Ingaas量子线的制备和/ spl mu / -PL成像
机译:混合表面活性剂系统可控制恶劣环境中的分散稳定性,以增强金属表面的化学机械抛光(CMP)。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:无序晶体表面的漫反射LEED强度:III。 LEED调查金的无序(110)表面
机译:来自劈裂和溅射退火的Inp(110)表面的LEED和俄歇数据的比较