机译:利用光电化学反应对AlGaN / GaN HEMT进行低损伤刻蚀
机译:低损伤等离子体处理对AlGaN / GaN HEMT的2DEG沟道和器件特性的影响
机译:低泄漏GaN Hemts,具有低损伤蚀刻工艺制造的亚100nm t形栅极
机译:通过光电化学刻蚀和后金属化退火制备的隐栅AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:用多指架构调制对高功率应用的自终止蚀刻技术常关P-GAN / ALGAN / GAN HEMT的研究
机译:栅极漏电流对alGaN / GaN HEmT的影响由低频噪声和脉冲电测量证明,栅极漏电流对alGaN / GaN HEmT的影响由脉冲I-V和低频噪声测量证明
机译:si,GaN和alGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEmT)晶片的非接触迁移率,载流子密度和薄层电阻测量。