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【2h】

極薄酸化膜を持つ金属/酸化膜/半導体(MOS)デバイスの酸化膜/半導体界面の光電子分光法による研究

机译:用超薄氧化物对金属/氧化物/半导体(MOS)器件中的氧化物/半导体界面进行光电子能谱研究。

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