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机译:由D.C.磁控溅射制备的ITO和ITO / AG / ITO多层薄膜的微观结构和性能
Yong-Lak Choi; Seon-Hwa Kim;
机译:直流磁控溅射沉积ITO / Ag / ITO多层薄膜的光学和电学性质
机译:直流磁控反应溅射制备ITO / Ag / ITO薄膜及其表征
机译:磁控溅射ITO靶制备ITO薄膜(等离子体条件和衬底温度对ITO薄膜性能的影响)
机译:ITO / AG / ITO多层薄膜的光学和电性能由D.C.磁控溅射沉积
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:磁控溅射制备ITO靶的ITO薄膜的微观结构和电学性能
机译:薄膜电容器元件组合物,高介电常数绝缘膜,薄膜电容器元件,薄膜多层电容器的制造方法以及薄膜电容器元件
机译:薄膜电容器元件组合物,高介电常数绝缘膜,薄膜电容器元件以及薄膜多层电容器的制造方法
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