• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文OA文献 >Optimal pareto solutions of a dynamic C chart: An application of statistical process control on a semiconductor devices manufacturing process
【2h】

Optimal pareto solutions of a dynamic C chart: An application of statistical process control on a semiconductor devices manufacturing process

机译：动态C图表的最佳pareto解决方案：统计过程控制在半导体器件制造过程中的应用

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

The present paper proposes a novel economic-statistical design procedure of a dynamic c control chart for the Statistical Process Control (SPC) of the manufacturing process of semiconductor devices. Particularly, a non-linear constrained mathematical programming model is formulated and solved by means of the ε-constraint method. A numerical application is developed in order to describe the Pareto frontier, that is the set of optimal c charts and the related practical considerations are given. The obtained results highlight how the performance of the developed dynamic c chart overcome that of the related static one, thus demonstrating the effectiveness of the proposed procedure.
机译：本文提出了一种新型的动态c控制图的经济统计设计程序，用于半导体器件制造过程的统计过程控制（SPC）。特别地，通过ε约束方法建立并求解了非线性约束数学规划模型。为了描述帕累托边界，开发了一个数值应用程序，即给出了最佳c图集并给出了相关的实际考虑。获得的结果突出了所开发的动态c图的性能如何克服了相关静态c图的性能，从而证明了所提出程序的有效性。

著录项

  • 作者

    Lupo T.; Sgroi F.;

  • 作者单位
  • 年度 2015
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号