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用于通过原子层沉积将过渡金属氮化物膜沉积在基材上的方法和相关沉积设备

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本申请公开了用于通过原子层沉积将过渡金属氮化物膜沉积在基材上的方法和相关沉积设备。所述方法包括：在反应空间内的基材支架上提供至少一个基材；至少在至少一个腔室壁上暴露于气相反应物中的那些部分处控制至少一个腔室壁的温度；控制喷头的温度；将至少两种气相反应物交替并依序地进料到反应空间中，其中将喷头的温度控制在介于大致80℃与大致160℃之间的温度下。所述设备包括：安置于反应空间内的基材支架；控制至少一个腔室壁的温度的温度控制系统；以及控制喷头温度的温度控制系统。所述方法和系统不仅允许沉积高品质过渡金属氮化物膜，而且允许大量制造此类过渡金属氮化物膜。

著录项

公开/公告号CN109136883A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-04

原文格式PDF
申请/专利权人 ASM IP控股有限公司;
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申请/专利号CN201810456105.6
发明设计人 R·B·米利根;E·J·夏洛;F·阿洛克扎;W·G·佩特洛;D·李;H·王;M·范巴斯;L·李;E·王;
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申请日2018-05-14
分类号
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人乐洪咏
地址荷兰阿尔梅勒
入库时间 2024-02-19 07:03:26

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-07-24

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/455 申请日:20180514

实质审查的生效
2019-01-04

公开

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