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用于在基板上形成层的设备和在基板上形成层的方法

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公开了一种用于形成层的设备和一种在基板上形成层的方法。所述设备包括：转移腔室，在所述转移腔室中转移基板；沉积腔室，所述沉积腔室设置在所述转移腔室的一侧处，并且对所述基板执行沉积工艺，由此在所述基板上形成所述层；以及至少一个脱氢腔室，所述脱氢腔室设置在所述转移腔室的另一侧处，并且对所述基板上的所述层执行脱氢工艺，以减小所述层中的氢浓度。因此，在不从所述设备卸载所述基板的情况下，在所述设备中执行脱氢工艺。

著录项

公开/公告号CN109554691A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-02

原文格式PDF
申请/专利权人三星电子株式会社;
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申请/专利号CN201811088265.6
发明设计人李承宪;柳庚玟;吴暻锡;玄尚镇;
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申请日2018-09-18
分类号
代理机构北京市立方律师事务所;
代理人李娜
地址韩国京畿道
入库时间 2024-02-19 07:28:30

法律信息

法律状态公告日

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法律状态
2019-04-02

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