法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M3/20 申请日:20181229
实质审查的生效
2019-05-17
公开
公开
机译: 能够改善无栅诱发的漏漏现象的无栅渗漏现象的半导体装置及其制造方法
机译: 一种准确找到任何埋入式管道或电缆的位置和深度的技术,即使它可能位于其他长埋入式导体附近
机译: 用于基于导管的瓣环成形术的方法和设备技术领域本发明总体上涉及一种用于治疗二尖瓣功能不全例如二尖瓣渗漏的技术。更具体地,本发明是以微创方式,用于治疗二尖瓣膜漏的系统和方法。