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一种具有电磁场增强性能的异质纳米间隙结构及其制备方法

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一种具有电磁场增强性能的异质纳米间隙结构及其制备方法，属于纳米间隙结构制备技术领域。本发明涉及到纳米切割技术、物理气相沉积技术、光刻技术。整个过程操作简便，低耗清洁，可控性高。通过控制沉积间隔层的厚度，可以制备一系列不同间隙尺寸的纳微结构；通过控制沉积不同属性的金属材料，可以制备异质纳微结构；通过先后转移两个环氧树脂薄片堆垛在同一基底上，可以制备三维异质纳微结构，从而实现三维异质纳米间隙结构的制备。这种简单高效、低成本制备的异质纳米间隙结构，使电磁场显著增强，可以在新型的光学器件和电学器件等实际应用中发挥特殊的作用。

著录项

公开/公告号CN110426382A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-11-08

原文格式PDF
申请/专利权人吉林大学;
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申请/专利号CN201910732547.3
发明设计人张刚;郑天幸;谷盼盼;
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申请日2019-08-09
分类号
代理机构长春吉大专利代理有限责任公司;
代理人刘世纯
地址 130012 吉林省长春市前进大街2699号
入库时间 2024-02-19 14:49:04

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-12-03

实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/65 申请日:20190809

实质审查的生效
2019-11-08

公开

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