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一种铜熔体的除杂方法、高纯高导铜的制备方法

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本发明涉及一种铜熔体的除杂方法、高纯高导铜的制备方法，属于有色金属加工技术领域。本发明的铜熔体的除杂方法，包括以下步骤：向待处理的铜熔体通入氧气或空气，然后除去铜熔体表面的浮渣，再加入还原剂进行脱氧；待处理的铜熔体中铜的质量百分含量≥99.90％，氧的质量百分含量＜0.004％。本发明的铜熔体的除杂方法，采用氧化‑还原两阶段法对高纯铜熔体中杂质元素进行脱除，氧化阶段可以将铜熔体中的还原性杂质元素通过氧化法生成浮渣而脱除，还原阶段可以将利用还原剂将铜熔体中的氧元素通过还原法脱除，可以实现高纯高导铜中杂质元素含量的有效降低，获取导电率≥100％IACS的高纯高导铜。

著录项

公开/公告号CN110616338A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-27

原文格式PDF
申请/专利权人河南科技大学;
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申请/专利号CN201911033224.1
发明设计人刘海涛;宋克兴;周延军;程楚;安世忠;张彦敏;皇涛;国秀花;李韶林;朱一明;宋金涛;张凌亮;
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申请日2019-10-28
分类号
代理机构郑州睿信知识产权代理有限公司;
代理人胡云飞
地址 471003 河南省洛阳市涧西区西苑路48号
入库时间 2024-02-19 15:21:16

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-02-11

实质审查的生效 IPC(主分类):C22B15/00 申请日:20191028

实质审查的生效
2019-12-27

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1. 一种铜熔体的除杂方法、高纯高导铜的制备方法 [P] . 中国专利： CN110616338A . 2019-12-27
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