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包含采用碳原子间的不饱和键的等离子体固化性化合物的高低差基板被覆膜形成用组合物

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摘要

本发明的课题是提供形成具有对图案的填充性和平坦化性的被膜的等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物。解决手段是一种等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物，其包含化合物(E)和溶剂(F)，所述化合物(E)包含选自下述式(1‑1)～式(1‑7)所示的部分结构(I)中的至少一种结构。(式中，R

著录项

  • 公开/公告号CN110546568A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日产化学株式会社;

    申请/专利号CN201880024514.7

  • 发明设计人 远藤贵文;德永光;桥本圭祐;坂本力丸;

    申请日2018-04-11

  • 分类号

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2024-02-19 15:57:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20180411

    实质审查的生效

  • 2019-12-06

    公开

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