法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-14
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/08 申请公布日:20140219 申请日:20131126
发明专利申请公布后的驳回
2014-03-19
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/08 申请日:20131126
实质审查的生效
2014-02-19
公开
公开
机译: 氧化铟锡靶,制造相同方法的透明氧化铟锡薄膜和制造透明导电薄膜的方法
机译: 氧化铟锡靶,制造相同方法的透明氧化铟锡薄膜和制造透明导电薄膜的方法
机译: 在基质上制造平坦的氧化铟锡层的方法,包括步骤:溅射沉积铟锡氧化物层的一部分,加热基质,然后溅射沉积铟锡氧化物层的另一部分,以及涂覆基质氧化铟锡