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表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法

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摘要

本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法，在RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层；然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工，再采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合，其针对RB-SiC存在的微孔缺陷，利用表面改性技术使得待加工RB-SiC基底表面致密化，然后再进行光学二次加工，以实现RB-SiC基底表面的粗糙度小于1nm(rms)水平。因此本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了行之有效的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN101470223B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院大连化学物理研究所;

    申请/专利号CN200710159200.1

  • 发明设计人 公发全;刘万发;李刚;董闯;牟宗信;

    申请日2007-12-26

  • 分类号G02B5/08(20060101);B24B29/02(20060101);C04B41/81(20060101);

  • 代理机构21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司;

  • 代理人马驰;周秀梅

  • 地址 116023 辽宁省大连市中山路457号

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/08 授权公告日:20121003 终止日期:20151226 申请日:20071226

    专利权的终止

  • 2012-10-03

    授权

    授权

  • 2009-08-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-01

    公开

    公开

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