首页> 中国专利> 膜厚测定装置、膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置

膜厚测定装置、膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

一种膜厚测定装置，具有：将基板(W)支承成水平的基板台(87)；洗涤水供给部(90)，其将洗涤水供给到基板台(87)上的基板(W)整个表面；膜厚测定头(84)，其将光照射在基板台(87)上的基板(W)表面上的测定区域，生成来自测定区域的反射光的光谱，从该光谱确定基板(W)的膜厚；以及流体供给部(130)，其在光的光路上形成气体流，将该气体流施加到测定区域。采用本发明的膜厚测定装置及膜厚测定方法，可提高膜厚的测定精度。

著录项

公开/公告号CN104275640A

专利类型发明专利
公开/公告日2015-01-14

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社荏原制作所;
展开▼

申请/专利号CN201410330819.4
发明设计人野村季和;饭泉健;渡边和英;小林洋一;
展开▼

申请日2014-07-11
分类号B24B37/00(20120101);B24B37/34(20120101);B24B49/00(20120101);H01L21/304(20060101);
代理机构31210 上海市华诚律师事务所;
代理人梅高强;刘煜
地址日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
入库时间 2023-12-17 02:19:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-08-28

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B37/00 申请公布日:20150114 申请日:20140711

发明专利申请公布后的视为撤回
2016-06-22

实质审查的生效 IPC(主分类):B24B37/00 申请日:20140711

实质审查的生效
2015-01-14

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 膜厚测定装置、膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置 [P] . 中国专利： CN104275640A . 2015-01-14
2. 膜厚测定方法、膜厚测定装置、研磨方法及研磨装置 [P] . 中国专利： CN107429989B . 2020.05.12
3. FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS FILM-THICKNESS MEASURING METHOD AND POLISHING APPARATUS HAVING THE FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS [P] . 韩国专利： KR102049269B1 . 2019-11-28

机译：膜厚测定装置膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置
4. FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS, FILM-THICKNESS MEASURING METHOD, AND POLISHING APPARATUS HAVING THE FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS [P] . 韩国专利： KR20150007963A . 2015-01-21

机译：膜厚测定装置，膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置
5. FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS, FILM-THICKNESS MEASURING METHOD, AND POLISHING APPARATUS HAVING THE FILM-THICKNESS MEASURING APPARATUS [P] . SG10201403995WA . 2015-02-27

机译：膜厚测定装置，膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置