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Cr离子轰击改善多弧离子镀涂层性能的方法

摘要

本发明实施例提供了Cr离子轰击改善多弧离子镀涂层性能的方法,该方法中,Cr离子轰击后的TiN涂层表面粗糙度降低,Cr离子轰击TiN涂层后,在TiN涂层表面形成了一层薄薄的TiCrN固溶体,其中的Cr离子在加工过程中会氧化形成Cr

著录项

  • 公开/公告号CN110872697A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东正德材料表面科技有限公司;

    申请/专利号CN201911292452.0

  • 发明设计人 曾德长;易斌;邱兆国;

    申请日2019-12-16

  • 分类号

  • 代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;

  • 代理人肖云

  • 地址 528400 广东省中山市火炬开发区科技西路36号1号厂房之二

  • 入库时间 2023-12-17 05:14:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/58 申请日:20191216

    实质审查的生效

  • 2020-03-10

    公开

    公开

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