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一种基于椭偏仪的光学薄膜热膨胀系数测量装置及其测量方法

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本发明公开了一种基于椭偏仪的光学薄膜热膨胀系数测量装置及其测量方法，该测量装置包括椭偏仪、样品夹具组件、红外加热灯、热电偶组件、计算机。本发明光学薄膜热膨胀系数测量装置利用椭偏仪对光学薄膜厚度的精确测量，测量光学薄膜加温后的纳米级的变化，使测量微米级光学薄膜样品的热膨胀系数得以实现。本发明针对传统的材料热膨胀系数的测量方法不可测量纳米级位移的缺陷，设计出一种利用椭偏仪测量微小位移的实验装置。其操作简单，调节方便，可测量微米级样品的热膨胀系数，进而满足光学薄膜对微小尺寸的测试需求。

著录项

公开/公告号CN110823945A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-21

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院光电技术研究所;
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申请/专利号CN201911113246.9
发明设计人田晓习;熊胜明;高卫东;张殷华;
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申请日2019-11-14
分类号
代理机构
代理人
地址 610209 四川省成都市双流350信箱
入库时间 2023-12-17 07:21:39

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-03-17

实质审查的生效 IPC(主分类):G01N25/16 申请日:20191114

实质审查的生效
2020-02-21

公开

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