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季铵盐化合物在制备抑制化学镀渗镀的组合物中的应用以及金属层的制备方法

摘要

本发明涉及一种季铵盐化合物在制备抑制化学镀渗镀的组合物中的应用以及金属层的制备方法。该季铵盐化合物具有通式(Ⅰ)所示的结构,使得季铵盐化合物能够和钯离子在金属基底的边缘和拐角处产生竞争性的吸附,减少钯单质在金属基底的边缘和拐角处的沉积,从而抑制渗镀现象的发生。同时,氮原子带正电,呈缺电子状态,会吸附金属基底的边缘和拐角处与钯离子抢夺电子,抑制钯单质在金属基底的边缘和拐角处沉积,进一步抑制渗镀现象的发生。

著录项

  • 公开/公告号CN110983305A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东东硕科技有限公司;

    申请/专利号CN201911314282.1

  • 申请日2019-12-19

  • 分类号

  • 代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人秦冉冉

  • 地址 510280 广东省广州市白云区钟落潭镇钟车路36号201房

  • 入库时间 2023-12-17 07:34:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C18/18 申请日:20191219

    实质审查的生效

  • 2020-04-10

    公开

    公开

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