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基底膜形成装置、成膜装置、基底膜形成方法、及成膜方法

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本发明提供一种能够实现成膜速率的稳定的检测的技术。具备：配置在腔室(200)内，通过从蒸发源容器(301)蒸发的成膜材料(400)而形成有基底膜的第一水晶振子(13)；配置在腔室(200)内，用于获取基底膜的成膜速率的第二水晶振子(13c)；基于第二水晶振子(13c)的共振频率的变化来获取基底膜的成膜速率的获取部(233)；以及具有对蒸发源容器(301)进行加热的加热源(302)并控制向加热源(302)供给的电力的加热控制部(22)，该加热控制部(22)基于获取部(233)获取的基底膜的成膜速率来控制向加热源(302)供给的电力。

著录项

公开/公告号CN111074231A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-28

原文格式PDF
申请/专利权人佳能特机株式会社;
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申请/专利号CN201910825054.4
发明设计人水野彰;
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申请日2019-09-03
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人张宝荣
地址日本新泻县
入库时间 2023-12-17 08:17:21

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2020-04-28

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