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用于基于X射线的计量的明亮且干净的X射线源

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摘要

本文中描述用于利用干净、硬性的X射线照射源的基于x射线的半导体计量的方法及系统。更具体来说，激光产生的等离子体光源产生具有在25,000到30,000电子伏特的范围中的能量的高亮度、硬性的x射线照射。为实现高亮度，将高度聚焦、极短持续时间的激光束聚焦到呈液态或固态的致密氙靶标上。经聚焦的激光脉冲与所述高密度氙靶标的相互作用引发等离子体。来自所述等离子体的辐射由收集光学器件收集且被引导到被测量样品。由于使用非金属靶标材料，因此所产生等离子体发射是相对干净的。等离子体室填充有氙气以进一步保护光学元件免受污染。在一些实施例中，从所述等离子体室所蒸发的氙被循环回到氙靶标产生器。

著录项

  • 公开/公告号CN111052872A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201880056012.2

  • 发明设计人 O·可哈达金;

    申请日2018-08-29

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘丽楠

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 08:34:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05G2/00 申请日:20180829

    实质审查的生效

  • 2020-04-21

    公开

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