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一种电子轰击电离源装置、电离轰击方法及物质分析方法

摘要

本发明实施例提供一种电子轰击电离源装置、电离轰击方法及物质分析方法,装置包括:在第一电子推斥极靠近电离室的内侧、在第一灯丝的上下或者前后,放置一对径向加速电极,在径向加速电极之间形成垂直于磁场方向的电场;通电发热后的第一灯丝溢出的电子在磁场方向的作用力下呈螺旋线运动,其中,在垂直于磁场方向的电场的作用下,电子运动的螺旋线的半径增大,进而增加电子的实际运动路径。本发明实施例的装置通过增加与电子运动参考轴线垂直的电场,在电场的作用下,电子呈螺旋线运行的半径增大,进而增加了电子在电离室内的实际运行路径,增大了电子与被测物分子的碰撞截面积,进而提高了离子源的电离效率。

著录项

  • 公开/公告号CN111551628A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国计量科学研究院;

    申请/专利号CN202010511863.0

  • 发明设计人 黄泽建;江游;方向;戴新华;

    申请日2020-06-08

  • 分类号G01N27/64(20060101);H01J49/10(20060101);H01J49/14(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人李文清

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路18号

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    公开

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