公开/公告号CN110998585A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-10
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社半导体能源研究所;
申请/专利号CN201880041307.2
申请日2018-06-14
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人程晨
地址 日本神奈川
入库时间 2023-12-17 11:32:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F30/392 申请日:20180614
实质审查的生效
2020-04-10
公开
公开
机译: 布局设计系统,布局设计方法以及使用该布局设计系统制造的半导体器件
机译: 布局设计方法和用于执行布局设计方法的布局设计系统
机译: 布局设计系统,布局设计方法和用于执行布局设计方法的计算机可读记录介质构成程序