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用准分子激光制造微球面与非球面高分子结构阵列的方法

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摘要

一种用准分子激光制造微球面与非球面高分子结构阵列的方法,准分子激光光源通过一个光罩上的曲线图案照射并冲击基板上涂敷的高分子材料而使其剥离蚀刻。同时使基板沿着垂直于该直线的方向移动,使高分子材料在沿着该直线方向上的不同位置处受到不同时间长度的照射,造成不同蚀刻深度,因而可将高分子材蚀刻成预定形状的立体图案。并且,借助于两次不同方向或是不同光罩图案的照射蚀刻,可得到类球面或非球面的微阵列结构。

著录项

公开/公告号CN1353029A

专利类型发明专利
公开/公告日2002-06-12

原文格式PDF
申请/专利权人财团法人工业技术研究院;
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申请/专利号CN00133522.7
发明设计人蔡宏营;潘正堂;周敏杰;陈世洲;林育生;
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申请日2000-11-09
分类号B23K26/00;G02B3/02;
代理机构隆天国际专利商标代理有限公司;
代理人陈红
地址台湾省新竹县
入库时间 2023-12-17 14:19:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2004-07-14

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2002-06-12

公开

公开
2001-03-21

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效

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