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使用多级和空间填充形状元件的取样不足微带阵列

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一种取样不足的微带阵列，使用基于分形振子几何结构的多级合空间填充形状的贴片元件，比使用传统元件如正方形或圆形贴片能够获得的方向性，在相同的电子区域内获得了相同的方向性。然而，对于基于分形振子阵列的元件数目不能降低馈电网络和整体网络的复杂性。可以降低互耦合以避免辐射图形的畸变。由于在馈电网络中小的复杂性，比在相同电子区使用传统贴片元件获得的增益，可以获得更高的增益。

著录项

公开/公告号CN1630963A

专利类型发明专利
公开/公告日2005-06-22

原文格式PDF
申请/专利权人弗拉克托斯股份有限公司;
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申请/专利号CN02829211.1
发明设计人乔米·安哥拉普罗斯;卡尔斯·普恩特巴利亚达;玛丽亚-卡曼·博加博劳;
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申请日2002-07-15
分类号H01Q21/06;H01Q5/00;H01Q21/30;H01Q9/04;
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人秦晨
地址西班牙圣库加特德尔巴耶斯
入库时间 2023-12-17 16:16:48

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2006-03-29

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2005-06-22

公开

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相似文献

专利
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外文文献

1. 使用多级和空间填充形状元件的取样不足微带阵列 [P] . 中国专利： CN1630963A . 2005-06-22
2. 空间光调制装置、具有该空间光调制装置的投影机、该空间光调制装置所使用的微细结构元件的制造方法和利用该方法制造的微细结构元件 [P] . 中国专利： CN1698000A . 2005-11-16
3. Undersampled microstrip array using multilevel and space-filling shaped elements [P] . 美国专利： US2005128148A1 . 2005-06-16

机译：使用多级空间填充形状元素的欠采样微带阵列
4. The element and the space which formed at multiple level filling up, under you use the element which formed the microstrip array which is sampled [P] . 日本专利： JP2005533446A . 2005-11-04

机译：在多级填充的元素和空间被填充，在您使用形成采样的微带阵列的元素下
5. Undersampled microstrip array using multilevel and space-filling shaped elements [P] . 美国专利： US7310065B2 . 2007-12-18

机译：使用多层和空间填充形状元素的欠采样微带阵列