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布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法

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摘要

一种检出方法，从掩模图案抽出制造上成问题的缺陷。掩模图案是使在光刻蚀工序中使用的光掩膜的掩模图案变形，以便得到近似于所需的设计图案的复制图象。该检出方法包括：决定光刻蚀工序中的曝光量的工序；根据曝光量，使用计算机，进行光刻蚀工序的模拟的工序；确认是否能够获得所需要的设计图案的工序；特定故障部位后输出的工序。

著录项

公开/公告号CN1667505A

专利类型发明专利
公开/公告日2005-09-14

原文格式PDF
申请/专利权人松下电器产业株式会社;
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申请/专利号CN200510054376.1
发明设计人向井清士;伊藤光实;尾添律子;大桥达夫;辻川洋行;
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申请日2005-03-10
分类号G03F1/08;H01L21/027;H01L21/82;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人汪惠民
地址日本大阪府
入库时间 2023-12-17 16:25:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2009-06-03

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2005-11-16

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-09-14

公开

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