首页> 中国专利> 含有光触媒磷灰石的膜、其形成方法、涂布液和具有用含有光触媒磷灰石的膜被覆的部位的电子设备

含有光触媒磷灰石的膜、其形成方法、涂布液和具有用含有光触媒磷灰石的膜被覆的部位的电子设备

摘要

含光触媒磷灰石的膜,其含有无机涂布主材、分散于该无机涂布主材中的粉末状的光触媒磷灰石和粉末状的氧化钛,光触媒磷灰石和氧化钛的总含量为0.01~5wt%。

著录项

  • 公开/公告号CN1668376A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN02829581.1

  • 发明设计人 安曾德康;若村正人;

    申请日2002-09-17

  • 分类号B01J35/02;B01J27/18;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王健

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2023-12-17 16:29:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-03-25

    授权

    授权

  • 2005-11-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-09-14

    公开

    公开

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