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滤色片黑色矩阵光阻组合物及用于该组合物的碳黑分散体组合物

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本发明提供了一种用于滤色片黑色矩阵光阻的碳黑分散体组合物，其中包含(A)具有特定物理性能的碳黑(平均初始粒径，表面羧基浓度)，(B)具有氨基和/或其季铵盐的共聚物和(C)有机溶剂；并提供了包含上述分散体组合物、(D)具有羧基的粘结剂用树脂、(E)烯键式不饱和单体、(F)光致聚合引发剂和(G)特定的多官能硫醇化合物的滤色片黑色矩阵光阻组合物，该滤色片黑色矩阵光阻组合物可容易地通过光刻法形成具有高光屏蔽性能的薄膜或图案，具有优异的储存稳定性并显示出充分的灵敏度和分辨率。

著录项

公开/公告号CN1729429A

专利类型发明专利
公开/公告日2006-02-01

原文格式PDF
申请/专利权人昭和电工株式会社;
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申请/专利号CN200380106777.6
发明设计人镰田博稔;上条正直;大西美奈;
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申请日2003-12-17
分类号G03F7/00(20060101);G02F1/1335(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人林柏楠;刘金辉
地址日本东京都
入库时间 2023-12-17 16:59:29

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-03-24

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2006-03-22

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-02-01

公开

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