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进气装置、低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法

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本发明公开了一种进气装置，该进气装置可以用于向炉管内通入气体，所述进气装置包括主管，至少两个与外部气路相连的分管，以及连接主管与各所述分管的连接部分，其中，所述主管由炉管之内延伸至炉管之外，所述分管及连接部分均位于炉管之外。本发明还提供了应用该进气装置的低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法。采用本发明的进气装置、低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法后，可以减少薄膜生长的颗粒污染数，提高薄膜的形成质量，减少炉管所需的湿法清洗次数，提高设备的利用率及生产的效率。

著录项

公开/公告号CN101457350A

专利类型发明专利
公开/公告日2009-06-17

原文格式PDF
申请/专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;
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申请/专利号CN200710094540.0
发明设计人赵星;赵金柱;李春龙;
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申请日2007-12-13
分类号C23C16/44;C23C16/34;
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人董立闽
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2023-12-17 22:10:28

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-09-12

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C16/44 申请公布日:20090617 申请日:20071213

发明专利申请公布后的驳回
2009-08-12

实质审查的生效

实质审查的生效
2009-06-17

公开

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