涂布设备、电子照相感光构件的生产方法和电子照相感光构件的大规模生产方法

技术领域

本发明涉及涂布设备、使用该涂布设备生产电子照相感光构件的方法和电子照相感光构件的大规模生产方法。 

背景技术

电子照相感光构件典型地具有支承体和形成于支承体上的感光层。此外，在支承体和感光层之间可设置导电层和底涂层(中间层)等，并且可在感光层上设置保护层。 

为生产电子照相感光构件，在支承体上形成层如感光层的方法包括例如浸涂法、辊涂法、喷雾法和静电涂装法等。这些中，在被涂布体(object to be coated)具有三维形状如圆筒状或无缝带状等的场合下，浸涂法可能是有利的。另外，浸涂法在大规模生产中是有利的，这是因为单一涂布设备(浸涂设备)能够同时涂布多个物体(object)。因而，浸涂法已广泛用于电子照相感光构件的生产(大规模生产)。 

图6示出涂布设备(浸涂设备)的实例。 

在示于图6的涂布设备中，将涂布液20借助液体输送单元3如泵等经由回收罐2和过滤器4运送至涂布槽9的下部。此外，超过涂布槽9容量的涂布液20落入溢流容器10，然后经由配管运送至回收罐2。附图标记6表示涂布液20的液面。使用如上所述的涂布液循环器，涂布液20在涂布设备内循环。此外，设置有用于被涂布体1从其中通过的贯通口8的罩盖(cover cap)7覆盖涂布槽9。罩盖7抑制异物进入涂布液20和溶剂从涂布液20挥发。被涂布体(object to be coated)/被涂布体(coated object)1通过升 降单元(未示出)被部分地把持(grip)，浸渍于涂布槽9中容纳的涂布液20中，然后从所述涂布液20中提升，由此在被涂布体1的表面上形成涂膜(湿涂膜)。此外，罩(hood)5防止涂膜被提升后受到周围条件的影响。罩5安装在罩盖7的贯通口8的上方。 

在生产电子照相感光构件等的间隔期间，涂布设备内的涂布液的循环可临时停止以定期交换过滤器或维护升降单元和液体输送单元。当涂布设备内的涂布液的循环停止时，溶剂从涂布槽内的涂布液的液面蒸发，导致涂布液粘度的增加。因此，部分半固态的膜(下文中称为“半固态膜”)可形成于涂布液的液面上。当恢复涂布液的循环时，半固态膜被涂布槽的上端边缘部捕获并保持在其上，导致其滞留。残留于涂布槽的上端边缘部上的半固态膜使得涂布槽中的涂布液流动(涂布液从涂布槽中溢流)不均匀，由此可能发生涂布缺陷如膜厚度的不均匀等。 

作为抑制异物在涂布槽中的涂布液的液面处滞留的方法，日本专利特开2002-323778公开了在涂布槽的上端部设置槽口部或沉积部的方法。 

此外，作为用于保持涂布液从涂布槽中均匀溢流的方法，日本专利特开07-132258公开了一种涂布槽，其中相对于如图7A和7B所示的典型涂布槽形状，设置如图8A和8B中所示从上端面12朝向外侧倾斜的倾斜面14。 

然而，日本专利特开2002-323778中公开的方法对于气泡是有效的但对于半固态膜实质上是无效的。另外，涂布液在槽口部或停止部附近的流动变得不均匀，导致涂布缺陷的发生。 

此外，日本专利特开07-132258中公开的涂布槽可一定程度上减少半固态膜滞留的风险，但对于抑制半固态膜的滞留仍是不充分的。 

发明内容

本发明涉及涂布设备，其抑制以下现象：在涂布设备内的涂布液的循环暂停时可形成于涂布液的液面上的半固态膜，即使在涂布液的循环恢复后，仍滞留在涂布槽的上端边缘部，并且滞留的半固态膜引起涂布缺陷的发生。 

此外，本发明涉及使用前述涂布设备生产电子照相感光构件的方法。 

此外，本发明涉及使用前述涂布设备大规模生产电子照相感光构件的方法。 

根据本发明的一个方面，提供涂布设备，其包括：圆筒状涂布槽，其用于容纳涂布液；升降单元，其用于将被涂布体浸渍于所述涂布槽内的涂布液中并从所述涂布液中提升；和循环器，其用于使所述涂布液循环从而使所述涂布液超过所述涂布槽的上端部而溢流。其中所述涂布槽的上端部包括：第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外径的外径；和台阶面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互连接，其中所述循环器能够在保持所述涂布槽充满所述涂布液而不会使所述涂布液从所述涂布槽中溢流的同时使所述循环暂停，并恢复所述循环，并且其中，当在所述涂布液的循环暂停之后恢复所述涂布液的循环时，所述溢流的涂布液在润湿所述台阶面的全部区域的同时沿所述第二上端面流动。 

根据本发明的另一个方面，提供生产电子照相感光构件的方法，其包括通过浸涂法在被涂布体的表面上形成涂膜的步骤，其中所述浸涂法使用前述涂布设备进行。 

根据本发明的又一个方面，提供大规模生产电子照相感光构件的方法，其包括： 

(i)提供涂布设备，所述涂布设备包括： 

圆筒状涂布槽，其用于容纳涂布液， 

升降单元，其用于升降用于电子照相感光构件的被涂布体，和 

循环器，其用于使所述涂布液循环， 

(ii)使用于电子照相感光构件的被涂布体下降，将其浸渍于所述涂布液中，然后将其从所述涂布液中提升，用所述循环器使所述涂布液循环从而使所述涂布液超过所述涂布槽的上端部而溢流，和 

(iii)重复所述步骤(ii)以生产多个被涂布体， 

其中 

所述涂布槽的上端部包括： 

第一上端面； 

第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外径的外径；和 

台阶面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互连接，和 

其中 

所述方法进一步包括： 

(iv)在保持所述涂布槽充满所述涂布液而不会使所述涂布液从所述涂布槽中溢流的同时，使所述涂布液的循环暂停；和 

(v)恢复所述循环以使所述溢流的涂布液在润湿所述台阶面的全部区域的同时沿所述第二上端面流动。 

根据本发明，可提供涂布设备，其抑制以下现象：在涂布设备内的涂布液的循环停止时可形成于涂布液的液面上的半固态膜，即使在涂布液的循环恢复后，仍滞留在涂布槽的上端边 缘部，导致涂布缺陷的发生。 

此外，根据本发明，可提供使用前述涂布设备生产电子照相感光构件的方法。 

此外，根据本发明，可提供使用前述涂布设备大规模生产电子照相感光构件的方法。 

参考附图，从示例性实施方案的以下描述中，本发明的进一步特征将变得显而易见。 

附图说明

图1A为示出在本发明的涂布设备中的涂布槽的实例的图。 

图1B为图1A所示涂布槽的上端部的放大图。 

图2A为在本发明的涂布设备中涂布槽的上端部的垂直截面图。 

图2B为在本发明的涂布设备中涂布槽的上端部的垂直截面图。 

图3A为在本发明的涂布设备中涂布槽的上端部的垂直截面图。 

图3B为在本发明的涂布设备中涂布槽的上端部的垂直截面图。 

图4为在本发明的涂布设备中的示例性涂布槽的上端部的放大图。 

图5为示出设置有具有通过使用本发明的涂布设备生产的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的实例的示意性构造图。 

图6为示出涂布设备(浸涂设备)的实例的图。 

图7A为示出传统典型涂布槽形状的实例的图。 

图7B为图7A所示涂布槽的上端部的放大图。 

图8A为示出传统涂布槽形状的实例的图。 

图8B为图8A所示涂布槽的上端部的放大图。 

具体实施方式

本公开内容的涂布设备为至少具有以下功能的涂布设备：在使涂布液在涂布设备内循环从而使涂布液超过其上端部从涂布槽中溢流的同时，将被涂布体浸渍于涂布槽的涂布液中并将被涂布体从所述涂布液中提升，从而在被涂布体表面上形成涂膜。 

本公开内容的示例性涂布设备100包括具有如图6所示构造的涂布设备100。 

在示于图6的涂布设备中，将涂布液20借助液体输送单元3如泵等经由回收罐2和过滤器4运送至涂布槽9的下部。在本公开内容的情况下，涂布槽9的形状可形成为如图1或图4所示的新颖形状或配置。 

超过涂布槽9容量的涂布液20落入溢流容器10中，然后经由配管被运送至回收罐2。使用如上所述的涂布液循环器，涂布液20在涂布设备内循环。此外，设置有用于被涂布体1从其中通过的贯通口8的罩盖7覆盖涂布槽9。罩盖7抑制异物进入涂布液20和溶剂从涂布液20挥发。被涂布体1可通过升降单元(未示出)被部分地把持，浸渍于涂布槽9容纳的涂布液20中，然后提升，由此在被涂布体1的表面上形成涂膜(湿涂膜)。此外，防止湿涂膜受到周围条件如周围的风的影响的罩5安装在罩盖7的贯通口8的上方。 

用于本发明的涂布设备100的涂布槽的示例性形状示于图1A和图1B。如图1B所示，图1A所示的涂布槽的上端部包括第一上端面12a、第二上端面12b和台阶面13，所述第二上端面12b 位于第一上端面12a的下方并具有大于第一上端面12a外径的外径，所述台阶面13使第一上端面12a和第二上端面12b相互连接。 

图2A和图2B各自为图1所示涂布槽的上端部的垂直截面图。当涂布设备内的涂布液的循环停止并由此涂布液从涂布槽的溢流停止时，在经过一定时间后半固态膜21形成于涂布液的液面上。然后，形成的半固态膜21被第一上端面12a(上端边缘部)捕获，因而可滞留于第一上端面12a上(图2A)。然后，在涂布设备内的涂布液的循环恢复，涂布液绕过滞留于第一上端面12a上的半固态膜从涂布槽中溢流。超过第一上端面12a从涂布槽中溢流的一部分涂布液在润湿台阶面13的全部区域的同时沿第二上端面12b流动。然后，该部分涂布液在半固态膜21的下侧延伸(stretch out)并与半固态膜21接触，由此可使半固态膜21流到下方(图2B)。附图标记22表示沿第二上端面12b流动并在半固态膜21下延伸的涂布液。 

如图3B所示，优选第二上端面12b具有使其外周部高于其内周部的倾斜。在该配置下，从涂布槽中溢流的涂布液能够更可靠地在半固态膜的下侧延伸。第二上端面12b和水平方向之间的角度(图3B中的α)优选在0°至30°的范围内。在较大角度α时，涂布液趋于在半固态膜的下侧延伸，而在较小角度α时，半固态膜趋于流到下方。当第二上端面12b具有其外周部低于其内周部的倾斜时，认为角度α的值相对于水平线为负值(即在水平线下)。 

此外，沿台阶面13的垂直方向的长度(图3A和图3B中示出的符号“a”)优选在0.5mm-3mm的范围内。在较长长度“a”时，半固态膜趋于不跨越第一上端面12a和第二上端面12b而延伸因而几乎不能由此被捕获，从而沿第二上端面12b流动的涂布液容易在半固态膜的下侧延伸。在较短长度“a”时，沿第二上端面12b流动的涂布液容易润湿台阶面13的全部区域，因而，涂布液易 于与半固态膜接触。 

第二上端面12b的内周部和外周部之间的最短距离(图3A和图3B中示出的符号“b”)优选在0.3mm-3mm的范围内。在较长距离“b”时，涂布液容易在半固态膜的下侧延伸。在较短距离“b”时，半固态膜至少被第二上端面12b捕获，因而沿第二上端面12b流动的涂布液容易在半固态膜的下侧延伸。 

在本发明中，优选涂布槽上端部的上端面仅具有由第一上端面和第二上端面组成的两个表面。即使当设置位于第二上端面的下方的第三或随后的上端面(例如，图4)时，与第一上端面相比，半固态膜也不太可能由第二上端面或者第三或随后的上端面捕获，因而，第三或随后的上端面几乎没有机会有助于半固态膜的向下流动。此外，当设置第三或随后的上端面时，从第一上端面向下流动的半固态膜更易于由第三或随后的上端面捕获。 

优选地，图3中所示的角度α、长度“a”和距离”b”具有以下关系，其中，当在涂布设备内的涂布液的循环停止一段时间后恢复在涂布设备内的涂布液的循环时，涂布液可能能够从涂布槽中溢流，沿第二上端面流动，并在润湿台阶面13的全部区域的同时流动。 

接着，给出使用本发明的涂布设备生产电子照相感光构件的方法的描述。 

通常，电子照相感光构件通过将感光层形成于支承体上来生产。感光层可为包含在同一层中含有的电荷输送材料和电荷产生材料的单层型感光层，或可为其中在包含电荷输送材料的电荷输送层和包含电荷产生材料的电荷产生层中功能分离的层压型(功能分离型)感光层。考虑到电子照相特性，感光层优选层压型感光层。在层压型中，优选从支承体侧依次层压电荷产 生层和电荷输送层的类型(顺层型)。在支承体和感光层之间可设置此处描述的导电层和底涂层，以及在感光层上可设置以下描述的保护层。 

前述“涂膜”可为导电层、底涂层、感光层(电荷产生层或电荷输送层)、保护层或其它层。前述“被涂布体”是指其表面上要形成“涂膜”的物体。例如，当电子照相感光构件包括支承体、依次配置在支承体上的导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和保护层时，术语“涂膜”和“被涂布体”如下定义。 

当“涂膜”为导电层时，“被涂布体”为支承体。 

当“涂膜”为底涂层时，“被涂布体”为具有支承体和在支承体上的导电层的物体。 

当“涂膜”为电荷产生层时，“被涂布体”为具有支承体以及依次形成于支承体上的导电层和底涂层的物体。 

当“涂膜”为电荷输送层时，“被涂布体”为具有支承体以及依次形成于支承体上的导电层、底涂层和电荷产生层的物体。 

当“涂膜”为保护层时，“被涂布体”为具有支承体以及依次形成于支承体上的导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层的物体。 

本发明的涂布设备可适用于上述层中任意一层，或也可适用于多层。半固态膜趋于形成于粘度特别地为30-800mPa·s的涂布液上。将电荷输送层用涂布液典型地调整至具有30mPa·s-800mPa·s范围内的粘度。在较低粘度时，可发生涂布液的下沉(sagging)或下垂(drooping)，因而，在被涂布体轴向上部的表面上要形成的涂膜的膜厚度趋于比在被涂布体轴向中心部或轴向下部的表面上要形成的涂膜的膜厚度薄。此外，在较高粘度时，当涂布时的流平(leveling)变得不充分，并由此趋于发生涂膜中的不均匀。特别地，对于粘度为500mPa·s以下的涂 布液，本发明的涂布设备对于抑制半固态膜的滞留是有效的。此处，粘度为当涂布液的温度为25℃时使用由Shibaura System Co.，Ltd.制造的单圆筒型旋转粘度计(商品名：Bismetron VS-A1型)测量的值。 

此外，将本发明的涂布设备用于涂布液的循环以使涂布液水平在涂布槽中上升从而从涂布槽中溢流。当涂布液水平在涂布槽中上升时，将涂布液水平的上升速率典型地调整至在30mm/min-280mm/min范围内。在较慢上升速率下，涂膜中的不均匀难以发生，而在较快上升速率下，涂布液难以在涂布槽中停滞。在涂布液水平以特别是60mm/min以上的上升速率在涂布槽内升高的条件下，本发明的涂布设备在抑制半固态膜的滞留中是有效的。 

下文中，将给出关于具有层压型感光层的电子照相感光构件的实例的详细描述。 

优选支承体为具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如，可采用由例如铝、铝合金、铜、锌、不锈钢、钒、钼、铬、钛、镍、铟、金和铂等制成的金属(合金)支承体。此外，也可采用通过真空蒸发法形成的具有金属(合金)涂膜(上述那些)的金属支承体或塑料支承体。塑料可包括聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二酯和丙烯酸类树脂等。 

也可采用通过用导电性颗粒如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒和银颗粒等与粘结剂树脂一起浸渍(impregnating)塑料或纸形成的支承体，和具有导电性粘结剂树脂的塑料支承体等。 

支承体的形状的实例包括圆筒状和无缝带状(即，环形带状)等。其中，优选圆筒状。 

出于抑制由于激光束的散射引起的干涉条纹的目的，支承体表面可进行切削处理、表面粗糙化处理或氧化铝膜处理 (alumite treatment)等。 

出于抑制由于激光束的散射引起的干涉条纹或支承体上的涂布刮痕的目的，可在支承体和感光层(电荷产生层、电荷输送层)或下述底涂层之间设置导电层。 

导电层可以以涂布导电层用涂布液，并将获得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。导电层用涂布液通过将导电性颗粒如炭黑、金属颗粒和金属氧化物颗粒等与粘结剂树脂和溶剂一起进行分散处理来获得。 

导电层的膜厚度优选在1μm-40μm的范围内，更优选在2μm-20μm的范围内。 

此外，在支承体或导电层和感光层(电荷产生层、电荷输送层)之间可设置具有阻隔功能(barrier function)和接合功能(bonding function)的底涂层。出于改进感光层的粘合性和涂布性、改进从支承体的电荷注入性和改进对于感光层的电破坏的保护等的目的来设置底涂层。 

底涂层可以以涂布通过将树脂溶解于溶剂中获得的底涂层用涂布液并将获得的涂膜干燥的方式形成。 

底涂层中使用的树脂的实例包括丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、乙基纤维素树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、环氧树脂、酪素树脂、硅酮树脂、明胶树脂、酚醛树脂、缩丁醛树脂、聚丙烯酸酯、聚甲醛、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇、聚丁二烯、聚丙烯和脲醛树脂等。 

此外，底涂层可使用氧化铝等形成。 

此外，如果需要，也可将金属颗粒、合金颗粒、金属氧化物颗粒、盐或表面活性剂等添加至底涂层。 

底涂层的膜厚度优选在0.05μm-7μm的范围内，更优选在 0.1μm-2μm的范围内。 

电荷产生层可以以涂布电荷产生层用涂布液，并将获得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。电荷产生层用涂布液通过将电荷产生材料与粘结剂树脂和溶剂一起进行分散处理来获得。干燥和固化方法的实例包括加热和放射线照射等。分散处理方法的实例包括使用例如均质器、超声分散机、球磨机、砂磨机、辊磨机、振动磨机、磨耗机和液体碰撞型高速分散机等的方法。 

电荷产生材料的实例包括偶氮颜料如单偶氮型、双偶氮型或三偶氮型；金属或非金属酞菁颜料；靛蓝颜料如靛蓝或硫靛蓝；苝颜料如苝酸酐或苝酸酰亚胺；多环醌颜料如蒽醌和芘醌；方酸菁染料；吡喃鎓盐或噻喃鎓盐；三苯甲烷染料；无机材料如硒、硒-碲或无定形硅；喹吖啶酮颜料、薁鎓盐颜料(azulenium salt pigment)、花青染料；呫吨染料、醌亚胺染料、苯乙烯基染料；硫化镉；和氧化锌等。这些电荷产生材料可单独使用或组合使用。 

用于电荷产生层中的粘结剂树脂的实例包括丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、硅酮树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、酚醛树脂、缩丁醛树脂、亚苄基树脂(benzal resins)、聚丙烯酸酯、聚甲醛、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、多芳基化合物(polyarylate)、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇缩醛、聚丁二烯、聚丙烯、甲基丙烯酸类树脂、脲醛树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物和乙酸乙烯酯树脂等。其中，优选缩丁醛树脂等。这些可单独或作为两种以上的混合物或共聚物使用。 

电荷产生层中粘结剂树脂的比例优选为90质量％以下，更优选50质量％以下，相对于电荷产生层的总质量。 

用于电荷产生层用涂布液中的溶剂的实例包括有机溶剂如醇、亚砜、酮、醚、酯、脂肪族卤代烃和芳香族化合物等。 

电荷产生层的膜厚度优选在0.001μm至6μm的范围内，更优选在0.01μm至1μm的范围内。 

此外，如果需要，可将敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂或增塑剂等添加至电荷产生层。 

电荷输送层可以以涂布通过将电荷输送材料和粘结剂树脂溶解于溶剂中获得的电荷输送层用涂布液并将获得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。干燥和固化方法的实例包括加热和放射线照射等。 

电荷输送材料的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物等。这些电荷输送材料可单独或组合使用。 

用于电荷输送层中的粘结剂树脂的实例包括丙烯酸类树脂、丙烯腈树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、酚醛树脂、苯氧基树脂、缩丁醛树脂、聚丙烯酰胺、聚甲醛、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、多芳基化合物、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇缩丁醛、聚苯醚、聚丁二烯、聚丙烯、甲基丙烯酸类树脂、脲醛树脂、氯乙烯树脂和乙酸乙烯酯树脂等。这些中，优选多芳基化合物或聚碳酸酯。这些可单独或作为两种以上的混合物或共聚物使用。 

电荷输送材料在电荷输送层中的比例优选在20质量％-80质量％的范围内，更优选在30质量％-70质量％的范围内，相对于电荷输送层的总质量。 

电荷输送材料和粘结剂树脂的比例优选在5∶1-1∶5(质量比) 的范围内。 

用于电荷输送层用涂布液的溶剂的实例包括有机溶剂如一氯苯、二噁烷、甲苯、二甲苯、N-甲基吡咯烷酮、二氯甲烷、四氢呋喃和甲缩醛等。 

此外，如果需要，可将抗氧化剂、紫外线吸收剂或增塑剂等添加至电荷输送层。 

出于保护感光层的目的，可在感光层上设置保护层。保护层可以以涂布通过将上述各种粘结剂树脂溶解于溶剂中获得的保护层用涂布液并将获得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。干燥和固化方法的实例包括加热和放射线照射等。 

用作电子照相感光构件表面层的层可包含润滑剂。此类润滑剂的实例包括含硅原子或氟原子的聚合物、单体和低聚物等。润滑剂的具体实例包括N-(正丙基)-N-(β-丙烯酰氧乙基)-全氟辛基磺酸酰胺、N-(正丙基)-(β-甲基丙烯酰氧乙基)-全氟辛基磺酸酰胺、全氟辛烷磺酸、全氟辛酸、N-正丙基-正全氟辛烷磺酸酰胺-乙醇、3-(2-全氟己基)乙氧基-1，2-二羟基丙烷、N-正丙基-N-2，3-二羟基丙基全氟辛基磺酰胺等。润滑剂的进一步实例包括含氟原子树脂颗粒如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚二氟二氯乙烯、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-乙烯共聚物和四氟乙烯-六氟丙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物等。这些润滑剂可单独或组合使用。当润滑剂由树脂制成时，其数均分子量优选在3,000-5,000,000的范围内，更优选在10,000-3,000,000的范围内。当润滑剂由颗粒制成时，其平均粒径优选在0.01μm-10μm的范围内，更优选在0.05μm-2.0μm的范围内。 

如果需要，可将电阻调节剂添加至电子照相感光构件的表面层中。此类电阻调节剂的实例包括颗粒如SnO₂、ITO、炭黑 或银等。也可采用已进行疏水化处理的电阻调节剂。已添加电阻调节剂的表面层的电阻优选在10⁹Ω-10¹⁴Ω的范围内。 

当设置保护层时，保护层为电子照相感光构件的表面层。当不设置保护层并且感光层为顺层型感光层时，电荷输送层为电子照相感光构件的表面层。当不设置保护层并且感光层为逆层型感光层时，电荷产生层为电子照相感光构件的表面层。 

图5为示出设置有具有通过本发明的涂布设备生产的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备实例的示意性构造图。 

在图5中，圆筒状电子照相感光构件101围绕轴102在预定圆周速度下沿箭头方向被旋转驱动。 

要被旋转驱动的电子照相感光构件101的表面借助于充电单元(一次充电单元：充电辊等)103均匀充电以具有预定的正或负电位。接着，将从曝光单元(未示出)如狭缝曝光或激光束扫描曝光等输出的曝光光(图像曝光光)104照射至电子照相感光构件101表面上。因此，对应于目标图像的静电潜像依次形成于电子照相感光构件101表面上。 

形成于电子照相感光构件101表面上的静电潜像通过显影单元105的显影剂中包含的调色剂显影从而形成调色剂图像。接着，将形成于电子照相感光构件101表面上的调色剂图像借助于转印单元(如，转印辊)106转印至转印材料(如，纸)P。然后，将转印材料(如，纸)P从转印材料供给单元(未示出)中与电子照相感光构件101旋转同步地取出并进给至电子照相感光构件101和转印单元106之间的位置(接触部分)。 

将其上具有调色剂图像的转印材料P从电子照相感光构件101的表面分离，并输送至用于图像定影的定影单元108从而将作为图像形成材料(打印件、复印件)的转印材料P打印到电子照相设备外。 

在转印后的电子照相感光构件1O1表面上的残余显影剂颗粒(转印后残余调色剂颗粒)通过清洁单元(如，清洁刮板)107除去以提供清洁表面。另外，将电子照相感光构件1O1表面通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光(未示出)的照射进行放电处理，并以重复的方式用于图像形成。如图5中所示，当充电单元103为采用充电辊等的接触充电单元时，不必需要预曝光。 

在选自电子照相感光构件1Ol、充电单元l03、显影单元l05、转印单元106和清洁单元107等的组件中，可将多个组件容纳在容器中并一体化配置为处理盒，从而使处理盒可拆卸地安装至电子照相设备如复印机或激光束打印机等的主体中。在图5中，将电子照相感光构件1O1、充电单元103、显影单元1O5和清洁单元107一体化支承作为处理盒109，从而可使用导向单元11O如电子照相设备主体的轨道等将处理盒109可拆卸地安装至电子照相设备的主体中。 

在下文中，将参考实施例更详细地说明本发明。然而，本发明不限于此。在以下实施例中，“份”是指“质量份”。 

(实施例1-1) 

将5,OOO份由以下结构式(1)表示的化合物(电荷输送材料)、和7,OOO份双酚Z-型聚碳酸酯(粘结剂树脂)(商品名：Iupilon Z-200，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造，粘度平均分子量(Mv)：20,OOO)的混合物溶解在混合溶剂(25,OOO份一氯苯/12,000份二甲氧基甲烷(甲缩醛))中以制备电荷输送层用涂布液，所述涂布液的粘度为15OmPa·s。 

在具有示于图6的构造和包括64(8行×8列)个涂布槽(64个涂布槽各自具有示于图1的形状和示于表1的a、b和α的值)的涂布设备中，将前述电荷输送层用涂布液循环10分钟，然后停止涂布液的循环。在距停止循环的时间30分钟后，恢复电荷输送层用涂布液的循环，在5分钟后，目视核查在各64个涂布槽中电荷输送层用涂布液的溢流的均匀性，并计数由于在涂布槽的上端边缘部上半固态膜的滞留而导致电荷输送层用涂布液的溢流状态不良的涂布槽的数量。在从涂布槽中溢流的同时将电荷输送层用涂布液的上升速率调节至130mm/min。重复这些操作十次，并对于各操作计数电荷输送层用涂布液的溢流状态不良的涂布槽的数量。在重复操作十次后，将通过将溢流状态不良的涂布槽的总数量(不良个数)除以640(64×10次)获得的值乘以100从而确定不良率[％]。不良个数和不良率的值示于表1中。 

(实施例1-2至1-22) 

除了用于电荷输送层用涂布液的材料的量、电荷输送层用涂布液的粘度、在从涂布槽中溢流的同时电荷输送层用涂布液的上升速率和64个涂布槽的种类(具有示于图1的形状的涂布槽的a、b和α的值)如表1中所示设定外，实施例1-2至1-22中进行的操作与实施例1-1进行的那些相同，并计算不良个数和不良率的值。不良个数和不良率的值示于表1中。 

示于表1的术语“式(1)”是指由上述结构式(1)表示的化合 物。术语“PC”是指双酚Z-型聚碳酸酯(商品名：Iupilon Z-200，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造，粘度平均分子量(Mv)：20,000)。术语“PA”是指双酚C-型多芳基化合物(重均分子量(Mw)：180,000)。术语“MCB”是指一氯苯。术语“DMM”是指二甲氧基甲烷。术语“OXY”是指邻二甲苯。 

(实施例1-23) 

除了将具有示于图4的形状的涂布槽用作64个涂布槽外，实施例1-23中进行的操作与实施例1-1进行的那些相同，并计算不良个数和不良率的值。不良个数和不良率的值示于表1中。第二上端面12b和水平方向之间的角度以及第三上端面12c和水平方向之间的角度设定为0度。沿台阶面13垂直方向的长度和沿台阶面13b垂直方向的长度二者均设定为1.2mm。第二上端面12b的内周部和外周部之间的最短距离以及第三上端面12c的内周部和外周部之间的最短距离二者均设定为0.7mm。 

(比较例1-1) 

除了将具有示于图7的形状的涂布槽用作64个涂布槽外，比较例1-1中进行的操作与实施例1-1进行的那些相同，并计算不良个数和不良率的值。不良个数和不良率的值示于表1中。 

(比较例1-2) 

除了将具有示于图8的形状的涂布槽用作64个涂布槽外，比较例1-2中进行的操作与实施例1-1进行的那些相同，并计算不良个数和不良率的值。不良个数和不良率的值示于表1中。 

表1 

(实施例2-1) 

电子照相感光构件通过使用本发明的涂布设备以下述方式来生产。 

首先，将直径为30mm和长度为254mm的铝圆筒用作支承体。 

接着，将10份聚酰胺(商品名：M-4000，由Toray Industries，Inc.制造)溶解于混合溶剂(100份甲醇/90份异丙醇)中以制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液浸涂于支承体上，并将获得的涂膜在90℃下干燥10分钟，从而形成膜厚度为0.6μm的底涂层。 

接着，将9份在用CuKα射线的X-射线衍射中在布拉格角2θ为7.4°±0.2°和28.1°±0.2°位置处具有强峰的羟基镓酞菁晶体(电荷产生材料)、3份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，由Sekisui Chemical Co.Ltd.制造)和100份四氢呋喃放入使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中，并进行分散处理3小时。将获得的分散液通过添加200份乙酸丁酯稀释从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液浸涂于底涂层上，并将获得的涂膜在80℃下干燥15分钟，从而形成膜厚度为0.15μm的电荷产生层。 

如上所述，生产各自具有支承体以及依所述次序设置于支承体上的底涂层和电荷产生层的640个物体(下文中简称为“被涂布体”)。 

接着，将640个被涂布体分为各自包括64个物体的10组。对于各组，使用与实施例1-1中采用的那些相同的涂布设备和相同的电荷输送层用涂布液将电荷输送层用涂布液浸涂于被涂布体的电荷产生层上，并在120℃下干燥60分钟从而形成电荷输送层。因此，获得表面层为电荷输送层的电子照相感光构件。在 从涂布槽中溢流时电荷输送层用涂布液的上升速率与实施例1-1中采用的上升速率相同。 

浸涂的具体处理工序如下。首先，在与实施例1-1中采用的涂布设备相同的涂布设备中，将与实施例1-1中采用的相同的电荷输送层用涂布液循环10分钟。然后，将电荷输送层用涂布液浸涂于第一组被涂布体的电荷产生层上。在浸涂后，停止在涂布设备中电荷输送层用涂布液的循环。在距停止循环的时间30分钟后，恢复电荷输送层用涂布液的循环，在5分钟后，将电荷输送层用涂布液浸涂于第二组被涂布体的电荷产生层上。以该方式，重复在涂布设备中电荷输送层用涂布液循环的停止(停止30分钟)和恢复直至电荷输送层用涂布液的浸涂进行至第十组被涂布体。 

目视核查如上所述获得的640个电子照相感光构件的电荷输送层的膜厚度的不均匀性用于评价。更具体地，电荷输送层的中心部分(沿被涂布体的轴向(浸涂方向)距离上端部127mm的位置)的膜厚度在沿其圆周方向间隔45°的8个位置处测量。当在8个位置处的膜厚度最大值和最小值之间的差等于或大于1.5μm时，将此类电子照相感光构件确定为由于半固态膜的滞留导致电荷输送层的膜厚度不均匀性大的不良电子照相感光构件。将通过将电荷输送层的膜厚度不均匀性大的不良电子照相感光构件的个数(不良个数)除以640获得的值乘以100从而确定不良率[％]。不良个数和不良率的值示于表2中。应注意，电荷输送层的膜厚度的值通过使用显微镜观察电子照相感光构件的截面来测量。 

(实施例2-2至2-23以及比较例2-1和2-2) 

除了涂布设备、电荷输送层用涂布液、在从涂布槽中溢流的同时电荷输送层用涂布液的上升速率如表2中所示设定外，通 过在实施例2-2至2-23以及比较例2-1和2-2中进行与实施例2-1进行的那些相同的操作来生产电子照相感光构件，并计算不良个数和不良率的值。不良个数和不良率的值示于表2中。 

表2 

当示于表1的结果与示于表2的结果相比较时，发现半固态膜的滞留和膜厚度不均匀性的发生之间存在近似正相关，并且 通过抑制半固态膜的滞留可抑制膜厚度不均匀性的发生。 

虽然已参考示例性实施方案描述了本发明，但应理解本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围根据最宽泛理解以涵盖所有此类改进、等同结构和功能。