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涂布设备、电子照相感光构件的生产方法和电子照相感光构件的大规模生产方法

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本发明提供涂布设备、电子照相感光构件的生产方法和电子照相感光构件的大规模生产方法。提供一种涂布设备和使用该涂布设备生产电子照相感光构件的方法，所述涂布设备抑制以下现象：即使在涂布液的循环恢复后半固态膜仍滞留在涂布槽的上端边缘部上，导致涂布缺陷的发生。所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外径的外径；和台阶面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互连接。当恢复循环时涂布液能够从所述涂布槽中溢流，沿第二上端面流动，并且在润湿台阶面的全部区域的同时流动。

著录项

公开/公告号CN102375353B

专利类型发明专利
公开/公告日2013-03-27

原文格式PDF
申请/专利权人佳能株式会社;
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申请/专利号CN201110236313.3
发明设计人岛田明;川濑祥二;
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申请日2011-08-16
分类号
代理机构北京魏启学律师事务所;
代理人魏启学
地址日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
入库时间 2022-08-23 09:13:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-03-27

授权

授权
2012-04-25

实质审查的生效 IPC(主分类):G03G 5/00 申请日:20110816

实质审查的生效
2012-03-14

公开

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