法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-02
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):A01G31/00 申请公布日:20120711 申请日:20111228
发明专利申请公布后的驳回
2013-08-07
实质审查的生效 IPC(主分类):A01G31/00 申请日:20111228
实质审查的生效
2012-07-11
公开
公开
机译: 基质清洁方法,用于形成基质清洁配方的方法以及用于制备基质清洁配方的装置
机译: 基质清洁方法,用于形成基质清洁配方的方法以及用于制备基质清洁配方的装置
机译: 一种用于生产光学辅助用药的基质的设备,一种用于光学辅助用药的基质的制造方法,利用它们的方法,一种用于制造光学辅助用药的介质以及一种用于制造光学辅助剂的方法,利用它们。