分立掩膜和通过利用该分立掩膜装配掩膜框组件的方法

优先权要求

本申请引用于2011年1月10日较早递交到韩国知识产权局且从而被正 式分配序列号No.10-2011-0002305的申请，将其合并于此，并要求该申请的 所有权益。

技术领域

本发明涉及在沉积薄膜中使用的分立掩膜以及通过利用分立掩膜装配 掩膜框组件的方法。

背景技术

一般来说，在显示装置中，有机发光显示装置具有宽的视角、优良的对 比度和快速的效应速度。

在有机发光显示装置中，通过被注入阳极和阴极中的空穴和电子的复合 发射光。有机发光显示装置具有堆叠结构，在该堆叠结构中，发射层被插置 在阳极与阴极之间。然而，由于对具有这种结构的有机发光显示装置来说难 以具有高的发光效率，因此电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注 入层等等被选择性地插置在发射层与阳极和阴极中的每个之间。

电极和包括有机发光显示装置的发射层的中间层，通过利用各种方法来 形成。这些方法中之一是沉积方法。为了通过利用沉积方法来制造有机发光 显示装置，具有与待形成在基板上的薄膜相同的图案的精细金属掩膜(FMM) 被对准在该基板上，然后具有期望的图案的薄膜通过沉积薄膜的原材料来形 成。

由于FMM在尺寸上很大，因此会出现更大的蚀刻误差，并且FMM的 中央部分可能由于它的重量而下陷。因此，近来，已经广泛使用通过形成各 种掩膜杆并且将掩膜杆连附到框架上而形成的分立掩膜(division mask)。

然而，分立掩膜在尺寸上很大，具有大约1,840mm的长度，以便满足用 户对大尺寸显示装置的需求。因此，在每个分立掩膜中的长度方向上可能形 成褶皱。也就是说，由于每个分立掩膜在尺寸上很长，因此可能在分立掩膜 上形成褶皱，并且分立掩膜并不一直平坦。在这种情况下，在精细图案通过 利用分立掩膜而形成的沉积过程中也可能出现各种问题。

因此，需要防止在分立掩膜上形成褶皱。

发明内容

本发明提供在沉积薄膜中使用的分立掩膜，以及通过利用该分立掩膜装 配掩膜框组件的方法，其中防止了在分立掩膜中形成褶皱。

根据本发明的一方面，一种分立掩膜包括：杆体，在该杆体上形成有沉 积图案；以及夹紧部分，所述夹紧部分沿所述杆体的纵向从所述杆体向外延 伸，所述夹紧部分从所述杆体在宽度上增加。

所述杆体和所述夹紧部分之间的连接部分可以被焊接到掩膜框组件的 框架上。

在所述连接部分被焊接在所述框架上之后，所述夹紧部分可以被移除。

所述夹紧部分可以包括延伸部分，该延伸部分具有从所述杆体向外增加 的宽度，并且所述夹紧部分可以具有“Y”形。

根据本发明的另一方面，一种装配掩膜框组件的方法包括：制备多个分 立掩膜和所述多个分立掩膜被连附至的框架，每个分立掩膜包括杆体和夹紧 部分，在所述杆体上形成有沉积图案，所述夹紧部分沿所述杆体的纵向从所 述杆体向外延伸，并且所述夹紧部分从所述杆体在宽度上增加；以及在通过 夹持所述分立掩膜的夹紧部分将张力施加到所述分立掩膜上的同时，将所述 杆体焊接到所述框架上。

所述方法可以进一步包括切掉所述分立掩膜的在之上完成所述焊接的 夹紧部分。

在所述杆体被焊接到所述框架上时，所述杆体和所述夹紧部分之间的连 接部分可以被焊接到所述框架上。

所述夹紧部分可以包括延伸部分，所述延伸部分具有从所述杆体向外增 加的宽度，并且所述夹紧部分可以具有“Y”形。

通过利用以上结构，由于在掩膜框组件的装配期间，拉紧张力因夹紧部 分的延伸部分而被施加在所述分立掩膜上，因此可以防止形成褶皱，从而获 得精确且稳定的掩膜框组件。

附图说明

通过参照以下结合附图考虑时的详细描述，本发明的更完整理解及其许 多伴随优势由于变得更好理解而易于显而易见，在附图中相同的附图标记表 示相同或相似的部件，其中：

图1是根据本发明实施例的分立掩膜的平面图；

图2是根据本发明实施例的掩膜框组件的平面图，在所述掩膜框组件中 图1的分立掩膜和一框架被彼此连附；以及

图3A到图3D是根据本发明实施例的用于描述装配图2的掩膜框组件的 方法的平面图。

具体实施方式

现在将参照附图对本发明进行更充分的描述，在附图中示出了本发明的 示例性实施例。

图1是根据本发明实施例的分立掩膜的平面图，并且图2是根据本发明 实施例的掩膜框组件的平面图，在所述掩膜框组件中图1的分立掩膜和一框 架被彼此连附。

多个分立掩膜100被焊接在框架200上(参见图2)，以构成掩膜框组 件300。分立掩膜100可以由例如镍、镍合金、镍钴合金等等形成。

如图1中所示，分立掩膜100包括杆体110和夹紧部分120，在杆体110 上形成有沉积图案101，夹紧部分120与杆体110的两个对端一体形成。

杆体110被焊接到框架200上(参见图2)，从而构成在沉积过程中使 用的掩膜框组件300。在杆体110被焊接到框架200上时，夹紧部分120用 于施加张力，并且在装配过程期间被移除。附图标记115表示杆体110和夹 紧部分120之间的边界，并且为待被焊接在框架200上的连接部分。

分立掩膜100被连附到框架200，从而构成掩膜框组件300，如图2中 所示。通过将连接部分115焊接至框架200，分立掩膜100被固定在框架200 上，使得沉积图案101被设置在框架200的开口201中。在连接部分115被 焊接到框架200上之后，夹紧部分120被移除，如图2中的虚线所示。

每个夹紧部分120具有“Y”形，并且包括延伸部分121，延伸部分121 具有沿杆体110的纵向从杆体110向外增加的宽度。因此，包括延伸部分121 的夹紧部分120，具有在分立掩膜100被焊接到框架200上时用于施加张力 的有利结构。

也就是说，为了将分立掩膜100焊接到框架200上，在与分立掩膜100 的两端集成的夹紧部分120被张紧器(未示出)夹持和拉动的同时，连接部 分115被焊接到框架200上。在这种情况下，当每个均包括延伸部分121的 夹紧部分120被夹持和拉动时，由于夹紧部分120与张紧器之间的接触区域 大于没有延伸部分121的情况，因此与没有延伸部分121的情况相比，可以 有更大的张力被施加到分立掩膜100上。因此，由于在非常紧的张力被施加 到分立掩膜100上时进行焊接，因此分立掩膜100的表面平坦度被增加，从 而显著减小褶皱的尺寸。

图3A到图3D是根据本发明实施例的用于描述装配图2的掩膜框组件的 方法的平面图。

通过利用分立掩膜100装配掩膜框组件300的方法可以根据图3A到图 3D中所示的顺序来执行。

首先，制备分立掩膜100和框架200。框架200是掩膜框组件300的外 框，并且具有方形结构，其中开口201形成在该方形结构的中央部分中。分 立掩膜100的连接部分115被分别焊接且固定在框架200的两侧上。

分立掩膜100为形状像长杆的部件。被设置在开口201中的沉积图案101 被形成在每个分立掩膜100上。另外，如上所述，杆体110和夹紧部分120 之间的连接部分115被焊接在框架200上。

图3A示出其中第一分立掩膜100被连附到框架200的操作。参照图3A， 与第一分立掩膜100的两端集成的夹紧部分120通过张紧器(未示出)被夹 持和向外拉紧。然后，拉紧张力T被施加到分立掩膜100上。如上所述，由 于夹紧部分120和张紧器之间的接触区域因延伸部分121而得到增加，因此 更多的张力T被施加到分立掩膜100上。因此，在分立掩膜100的杆体110 上形成的褶皱的尺寸得到显著减小，从而改进杆体110的表面平坦度。在这 种情况下，通过将连接部分115焊接在框架200上，第一分立掩膜100被固 定在框架200上。

在连接部分115被焊接在框架200上之后，在连接部分115外部形成的 夹紧部分120被切掉和移除，如图3B中所示。如上所述，由于夹紧部分120 包括延伸部分121，延伸部分121具有沿杆体110的纵向从杆体110向外增 加的宽度，因此如果夹紧部分120被保留的话，则夹紧部分120可能妨碍另 一相邻分立掩膜100的另一夹紧部分120。因此，在焊接第二分立掩膜100 之前，第一分立掩膜100的夹紧部分120被切掉和移除。

同样地，在完成第一分立掩膜100的焊接之后，第二分立掩膜100以与 第一分立掩膜100相同的方式被焊接，如图3C中所示。也就是说，张力T 通过夹持和拉住第二分立掩膜100的Y形夹紧部分120被施加在第二分立掩 膜100上。在这种状况下，连接部分115被焊接在框架200上。而且，由于 夹紧部分120和张紧器之间的接触区域因延伸部分121而得到增加，因此更 大的张力T被施加在第二分立掩膜100上。因此，焊接可以在形成于第二分 立掩膜100的杆体110上的褶皱的尺寸得到显著减小时进行。

而且，如图3D中所示，在连接部分115被焊接到框架200上时，在连 接部分115外部形成的夹紧部分120被切掉和移除。

同样地，其它分立掩膜100被顺序焊接在框架200上，从而完整装配掩 膜框组件300，如图2中所示。

因此，通过利用分立掩膜100，由于在掩膜框组件300的装配期间，在 非常紧的张力正被施加到分立掩膜100上的同时，分立掩膜100被焊接在框 架200上，因此可以防止在分立掩膜100上形成褶皱，并且从而可以获得精 确的掩膜框组件300。

形成在分立掩膜100上的褶皱的尺寸被测量。结果，在不具有“Y”形 的夹紧部分120的常规情况下，褶皱具有大约19.5μm的高度。然而，在具 有“Y”形的夹紧部分120的情况下，褶皱具有大于17.8μm的高度。因此， 获得了大约8.7％的提高。因此，可以获得精确且稳定的掩膜框组件300。

另外，掩膜框组件300可以被用在各种沉积过程中，包括有机发光层的 图案化过程中。

虽然已经参照本发明的示例性实施例对本发明进行了具体示出和描述， 但是本领域普通技术人员要理解的是，在不偏离由所附权利要求书限定的本 发明的精神和范围的情况下，可以在其中进行形式上和细节上的各种改变。