首页> 中国专利> 光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法

光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法

页面导航

摘要

一种光谱纯度滤光片，包括：基底、穿过所述基底的多个孔和多个壁。所述壁限定了穿过所述基底的多个孔。所述光谱纯度滤光片还包括：第一层，形成在所述基底上以反射第一波长的辐射；和第二层，形成在所述第一层上以防止所述第一层氧化。所述孔被构造和布置成能够使第二波长的辐射的至少一部分从其中透射穿过。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-04-29

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20121121 申请日:20100729

发明专利申请公布后的视为撤回
2013-01-16

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20100729

实质审查的生效
2012-11-21

公开

公开

1. 光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法 [P] . 中国专利： CN102792228A . 2012-11-21
2. 光谱纯度滤光片、包括这样的光谱纯度滤光片的光刻设备以及器件制造方法 [P] . 中国专利： CN102132213A . 2011-07-20
3. The spectral purity filters, lithographic apparatus, method of manufacturing a spectral purity filter, a device manufacturing method and a lithographic apparatus using [P] . 日本专利： JP2013509693A . 2013-03-14

机译：光谱纯度滤光片，光刻设备，制造光谱纯度滤光片的方法，器件制造方法和使用该光刻设备的光刻设备
4. Multi-layer spectral purity filter, lithographic apparatus including such a spectral purity filter, device manufacturing method, and device manufacturing thereby [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2053464B1 . 2010-07-21

机译：多层光谱纯度滤光片，包括这种光谱纯度滤光片的光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件
5. Multi-layer spectral purity filter, lithographic apparatus including such a spectral purity filter, device manufacturing method, and device manufacturing thereby [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2053464A1 . 2009-04-29

机译：多层光谱纯度滤光片，包括这种光谱纯度滤光片的光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件