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无损、快速、准确表征四面体非晶碳薄膜键态结构的方法

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本发明公开了一种无损、快速、准确表征ta-C膜键态结构的方法。首先，在石英或硅衬底上制备ta-C薄膜，然后利用紫外/可见/近红外分光光度计与光谱型椭偏仪分别测量ta-C薄膜的透射率T与椭偏参数Ψ和Δ，再以该参数为拟合参数，通过建立衬底层、ta-C薄膜层以及表面粗糙层的数学物理模型求解ta-C薄膜厚度d

著录项

公开/公告号CN102680410A

专利类型发明专利
公开/公告日2012-09-19

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所;
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申请/专利号CN201210134732.0
发明设计人汪爱英;李晓伟;孙丽丽;柯培玲;
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申请日2012-05-03
分类号G01N21/25;
代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司;
代理人陈英俊
地址 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
入库时间 2023-12-18 07:55:56

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-03-23

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01N21/25 申请公布日:20120919 申请日:20120503

发明专利申请公布后的驳回
2012-11-14

实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/25 申请日:20120503

实质审查的生效
2012-09-19

公开

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