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利用阳极氧化铝模板制备花状纳米金属钴的方法及其产物

摘要

本发明提供一种利用导电玻璃FTO、阳极氧化铝模板(AAO)和水性高分子粘接剂为复合电极制备花状纳米金属钴的方法,包括步骤(1)工作电极的制备:将水性粘接剂聚乙烯醇(PVA)溶液旋涂在导电玻璃上,粘接阳极氧化铝模板得到FTO/PVA/AAO复合电极,(2)电解液的制备:分别配制硫酸亚钴和硼酸溶液,将其混合,(3)电沉积反应:采用三电极体系,在复合工作电极上进行恒电压电沉积;(4)后处理:将电沉积后的工作电极浸泡在氢氧化钠中,除去阳极氧化铝模板。本发明以FTO/PVA/AAO为复合工作电极通过恒电压沉积制备了新型花状纳米结构的金属钴,该方法简单快捷,与传统方法相比,反应条件温和,时间短效率高,不需要高温高压条件。

著录项

  • 公开/公告号CN104846411A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-08-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN201510204698.3

  • 发明设计人 陈爱华;饶帆;

    申请日2015-04-27

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王文君

  • 地址 100191 北京市海淀区学院路37号北京航空航天大学

  • 入库时间 2023-12-18 10:21:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-25

    授权

    授权

  • 2015-09-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D5/54 申请日:20150427

    实质审查的生效

  • 2015-08-19

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明属于金属材料领域,具体涉及一种用电化学方法制备纳米 级金属材料的方法。

背景技术

金属钴由于其特殊的性能,在许多领域都有广泛的应用,如硬质 金属,陶瓷化工,催化,电池以及磁性材料等方面。用钴合金制成的 磁记录材料,具有记录密度高、矫顽力大,信噪比好,抗氧化性能好 等诸多优点;镍氢电池中加入钴,可提高放电比容量和大电流充放电 循环稳定性。材料的结构决定材料的性质,金属钴的微观结构和尺寸 对其性质有决定性作用,所以可以通过改变金属钴的微观结构和尺寸 来改变其性质。因此,通过各种方法制备各种不同形貌尺寸的微/纳 米材料已成为研究的热点。

目前,已有许多文献报道合成了不同微观形貌的金属钴,例如化 学制备方法获得金属钴纳米线(专利CN101698234A)如链状、用液 相化学还原制备纳米金属钴粉(专利CN102873336A)、以及层状金 属钴、金属钴和其他金属的复合物等。金属钴的制备方法中,如气相 氢还原法、射线辐照法、微乳液法、草酸盐热分解法、水热/溶剂热 法等,大多操作复杂,需要高温高压等反应条件,不利于大规模生产。 用AAO模板制备金属纳米材料,通常需要在AAO一面喷金,在模 板脱除后得到粉体材料,而且成本也高。

电化学方法是在外加电压下,使金属离子在阴极还原而形成沉积 层的方法,可以采用两电极体系或三电极体系来进行。在电化学制备 纳米金属材料过程中,通过选择工作电极、电流、电压等工艺参数, 控制晶核的生成和晶核的成长,可获得晶粒均匀致密的沉积层,并有 望制得具有特定几何形貌的纳米金属材料。

发明内容

针对本领域存在的问题,本发明的目的是提出一种利用氧化铝 模板制备花状纳米金属钴的方法。

本发明的另一目的是提出所述制备方法制备得到的材料。

实现本发明目的的技术方案为:

一种利用氧化铝模板制备花状纳米金属钴的方法,包括以下步 骤:

(1)工作电极的制备:将聚乙烯醇溶液旋涂在导电玻璃上,在 其表面粘接一层阳极氧化铝模板,放入真空烘箱中在120-180℃处理 0.5-5小时,将所得复合电极作为工作电极;

(2)电解液的制备:配制浓度分别为0.05-0.2的硫酸亚钴和硼 酸溶液,并将其混合;

(3)电沉积处理:采用三电极体系,在步骤(1)制得的工作电 极上恒电压沉积;三电极体系中,对电极为铂片,参比电极为饱和甘 汞电极,电解时间为5-60min;

(4)后处理:将电沉积后的工作电极浸泡在氢氧化钠溶液中, 除去阳极氧化铝模板,最后用超纯水将工作电极清洗2-6遍。

其中,步骤(1)中所述聚乙烯醇溶液的质量分数为6-7%。

在导电玻璃上旋涂的聚乙烯醇溶液浓度对材料制备有直接的影 响。PVA浓度太高,例如8%,造成FTO上PVA绝缘层太厚,钴离 子难以穿过PVA层到达FTO表面,而不能发生电还原;PVA浓度太 低则无法有效粘接AAO层,例如5%的聚乙烯醇溶液,无法得到 FTO/PVA/AAO复合电极。

其中,步骤(1)中所述阳极氧化铝模板的孔径为40-200nm。具 体可选80-100nm孔径、40-70nm孔径、100-120nm孔径、160-200nm 孔径制得一种,实现对形貌的控制。

发明人用没有AAO的FTO/PVA模板电沉积,得不到花状结构 (机理尚不清楚)。

优选地,步骤(2)中配制浓度分别为0.1mol/L的硫酸亚钴和硼 酸溶液,并将其混合。

优选地,步骤(3)中电解的电压为-1.5V,电沉积时间为10-60min。

由本发明所述的制备花状纳米金属钴的方法得到的材料。

本发明的有益效果在于:

本发明通过电沉积,用阳极氧化铝模板制备了一种新型花状纳 米结构的金属钴,该方法简单快捷,与传统方法相比,反应条件温 和,不需要高温高压条件。

本发明的方法制得的纳米级金属钴,具有规则的几何形貌。本 发明通过改变AAO模板尺寸和电化学参数来调控纳米级金属钴的 形貌,从而可获得不同磁性能的材料。

附图说明

图1为本发明实施例1制备得到的产品XRD图谱。

图2是本发明实施例1制备的产品扫描电镜图。

图3是本发明实施例2制备的产品扫描电镜图。

图4是本发明实施例3制备的产品扫描电镜图。

图5是本发明实施例4制备的产品扫描电镜图。

具体实施方式

以下具体实施方式用于说明本发明,但不应理解为对本发明的限 制。实施例中,如无特别说明,所用技术手段均为本领域常规的技术 手段。

实施例中阳极氧化铝模板购自合肥普元科技有限公司。导电玻 璃为市购FTO(掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)。

实施例1:

将1×2cm2导电玻璃FTO的一半部位旋涂一层6%的聚乙烯醇 溶液(旋涂转速2000rpm),之后粘附孔径为80-100nm的阳极氧化 铝(AAO)层,(尺寸为1cm×1cm,即,参与电化学反应的电极 面积为1cm2),放入真空烘箱中150℃处理2小时,得到工作电极。 分别配制0.1mol/L的硫酸亚钴和硼酸水溶液,混合后作为三电极 体系的电解液。

采用三电极体系,对电极为铂片电极,参比电极为饱和甘汞电 极,选择电流-时间法,电压为-1.5V,在工作电极上进行电沉积,沉 积时间为60min。电沉积结束后,用1mol/L的氢氧化钠溶液除去阳 极氧化铝模板,最后用超纯水将工作电极清洗三遍。

得到的材料的粉末衍射XRD图谱如图1(上),为了对比,基 板FTO(中)和FTO/PVA(下)的XRD谱图也在图1中列出。该 图表明得到的材料为金属钴。该材料的SEM照片如图2,证实得到 了大面积片层花状金属钴。

实施例2

在导电玻璃FTO上选涂一层6%的聚乙烯醇溶液,之后粘附孔 径为40-70nm的阳极氧化铝(AAO)层,放入真空烘箱中150℃处 理2小时,得到工作电极(尺寸为1cm×1cm)。分别配制0.1mol /L的的硫酸亚钴和硼酸水溶液,混合后作为三电极体系的电解液。

采用三电极体系,对电极为铂片电极,参比电极为饱和甘汞电 极,选择电流-时间法,电压为-1.5V,在工作电极上进行电沉积,沉 积时间为60min。电沉积结束后,用1mol/L的氢氧化钠溶液除去阳 极氧化铝模板,最后用超纯水将工作电极清洗三遍。

得到的材料的SEM图谱如图3。

实施例3

在导电玻璃FTO上旋涂一层6%的聚乙烯醇溶液(旋涂转速 2000rpm),之后粘附孔径为160-200nm的阳极氧化铝(AAO)层, 放入真空烘箱中150℃处理2小时,得到工作电极。分别配制0.1mol /L的的硫酸亚钴和硼酸水溶液,混合后作为三电极体系的电解液。

采用三电极体系,对电极为铂片电极,参比电极为饱和甘汞电 极,选择电流-时间法,电压为-1.5V,在工作电极上进行电沉积,沉 积时间为60min。电沉积结束后,用1mol/L的氢氧化钠溶液除去阳 极氧化铝模板,最后用超纯水将工作电极清洗三遍。

得到的材料的SEM图谱如图4。

实施例4

在导电玻璃FTO上旋涂一层6%的聚乙烯醇溶液,之后粘附孔 径为80-100nm的阳极氧化铝(AAO)层,放入真空烘箱中150℃ 处理2小时,得到工作电极。分别配制0.1mol/L的的硫酸亚钴和 硼酸水溶液,混合后作为三电极体系的电解液。

采用三电极体系,对电极为铂片电极,参比电极为饱和甘汞电 极,选择电流-时间法,电压为-1.5V,在工作电极上进行电沉积,沉 积时间为30min。电沉积结束后,用1mol/L的氢氧化钠溶液除去阳 极氧化铝模板,最后用超纯水将工作电极清洗三遍。

得到的材料的SEM照片如图5。相对于图2,该图中片层花瓣 较为稀疏和小。

由实施例1-4材料的SEM照片比较可知,本申请的方法,通过 选择AAO模板孔径、或电沉积的时间,制得的材料具有不同的密度 和形貌特征。

以上的实施例仅仅是对本发明的具体实施方式进行描述,并非 对本发明的范围进行限定,本领域技术人员在现有技术的基础上还 可做多种修改和变化,在不脱离本发明设计精神的前提下,本领域 普通工程技术人员对本发明的技术方案作出的各种变型和改进,均 应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。

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