法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-09
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C09C1/64 申请公布日:20151125 申请日:20150818
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-12-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C09C1/64 申请日:20150818
实质审查的生效
2015-11-25
公开
公开
机译: 热像仪曝光标准,包括低红外发射率的基底和高红外发射率的涂层
机译: 低聚物接枝的纳米填料组合物,复合材料,低聚物接枝的纳米填料的制备方法,将低聚物接枝的纳米填料沉积到聚合物基质中的方法,复合物的制备方法和制品
机译: 氟化镁颗粒,氟化镁颗粒的制备方法,氟化镁颗粒分散,制备氟化镁颗粒分散的方法,具有低折射率的层的制备方法,具有低折射率的折射率,具有低折射率的复合材料的制备方法折射率,以及具有低折射率的层的基体的制造方法