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一种微晶铝化物涂层制备方法

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一种微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：制备过程在真空中进行；采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体；在工件上施加高频脉冲负偏压，使等离子体中金属离子注入到工件表层内部，并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。本发明的优点：涂层晶粒度达到亚微米级，抗高温腐蚀性能优于简单铝化物涂层；制备过程中不需要加热工件，对基体组织和力学性能影响小，并可减少能源消耗；涂层结构致密，结合力优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀的NiAl涂层；工艺性能和工业放大性优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀NiAl涂层。涂层质量稳定性好，生长速率高；工作环境好，不会产生环境污染问题。

著录项

公开/公告号CN105256272A

专利类型发明专利
公开/公告日2016-01-20

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院金属研究所;
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申请/专利号CN201410339307.4
发明设计人沈明礼;朱圣龙;王福会;
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申请日2014-07-16
分类号C23C14/06;C23C14/48;
代理机构沈阳晨创科技专利代理有限责任公司;
代理人任玉龙
地址 110015 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
入库时间 2023-12-18 13:38:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-01-25

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/06 申请公布日:20160120 申请日:20140716

发明专利申请公布后的驳回
2016-02-17

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/06 申请日:20140716

实质审查的生效
2016-01-20

公开

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