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一种在柔性基底薄膜上制备功能性图形薄膜的方法

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摘要

本发明公开了一种在柔性基底薄膜上制备功能性图形薄膜的方法，包括：把柔性基底薄膜固定在真空仓中的旋转工件台上；在所述柔性基底薄膜上制备包含功能性图形薄膜形状的光刻胶；将金属靶材固定在真空仓中的靶台上；抽取真空；将由离子源产生的等离子体经引出、成束、加速、中和形成中性离子束；采用中性离子束轰击金属靶材，从金属靶材溅射出来的金属原子向柔性基底薄膜沉积从而在所述柔性基底薄膜暴露的部分上形成功能性图形薄膜，所述离子束的能量为200～1000eV，轰击时间为60～480s；打开真空仓，取出柔性基底薄膜。本发明的方法能够实现低温环境下在柔性基底薄膜上制备密度高、附着力强的纳米级甚至亚纳米级的功能性图形薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN106282955A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司;

    申请/专利号CN201610797588.7

  • 发明设计人 刁克明;

    申请日2016-08-31

  • 分类号C23C14/46(20060101);C23C14/04(20060101);C23C14/20(20060101);

  • 代理机构11609 北京格允知识产权代理有限公司;

  • 代理人周娇娇;谭辉

  • 地址 100071 北京市丰台区小屯路150号

  • 入库时间 2023-06-19 01:16:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/46 申请日:20160831

    实质审查的生效

  • 2017-01-04

    公开

    公开

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