公开/公告号CN107207674A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-26
原文格式PDF
申请/专利权人 日产化学工业株式会社;
申请/专利号CN201680007613.5
发明设计人 佐藤哲夫;
申请日2016-01-27
分类号
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 03:24:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-01-16
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F220/16 申请日:20160127
实质审查的生效
2017-09-26
公开
公开
机译: 易分解树脂薄膜形成组合物和易分解树脂薄膜
机译: 用于形成膜的组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,无定形膜制造方法,抗蚀剂图案形成方法,用于光刻,电路图案形成方法和用于光刻薄膜的底层薄膜的制造方法,用于形成光学构件的组合物, 用于形成膜,抗蚀剂树脂,辐射敏感树脂的树脂和用于形成光刻底层薄膜的树脂
机译: 聚甲基丙烯酸酯或聚丙烯酸酯的氨基解产物,包含这种氨基解产物和形成树脂的聚环氧化物的材料,制备氨基裂解的低聚物的方法以及氨基解产物与形成树脂的聚环氧化物结合使用以在成型制品上形成涂层的用途