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光学微结构及光学微结构层的制作方、导光组件及显示装置

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本发明提供一种光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置，该制作方法包括：形成光致聚合物膜层；对该光致聚合物膜层进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构。本发明提供的光学微结构的制作方法，其可以实现大尺寸产品的制备、跨尺度的光线微结构的分块制备，同时可以避免因膜层间贴合或填充造成的全息透镜中相位分布改变，而且具有较好的量产可行性和产品信赖性。

著录项

公开/公告号CN107229088A

专利类型发明专利
公开/公告日2017-10-03

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;
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申请/专利号CN201710665596.0
发明设计人王维;孟宪东;谭纪风;高健;陈小川;吕敬;董学;
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申请日2017-08-07
分类号G02B5/18(20060101);G02B6/00(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人彭瑞欣;张天舒
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2023-06-19 03:28:47

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-11-03

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20170807

实质审查的生效
2017-10-03

公开

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