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一种使用Uniform Mask制作Chirp光栅的装置及方法

摘要

本发明涉及一种使用Uniform Mask制作Chirp光栅的装置及方法,装置包括一套线性变化的衰减片、Uniform Mask、镜片夹持调节架、光纤夹持精密调节架,一套线性变化的衰减片和Uniform Mask分别固定在镜片夹持调节架上,且线性变化的衰减片与Uniform Mask平行,光敏光纤固定在光纤夹持精密调节架,且光敏光纤与Uniform Mask之间形成一定夹角。本发明采用光纤夹持精密调节架使光敏光纤和Mask之间形成一个夹角,这样形成的明暗相间条纹是均匀变化的而不是固定不变的;通过线性变化的衰减片调节,最终使落在光敏光纤的光强是均匀的。通过本发明的调节光敏光纤和Uniform Mask之间的角度以及更换线性衰减片,制作出不同Chirp rate光栅,本发明通用性高,不用再采购各种不同型号的定制Chirp Mask,降低昂贵的平台搭建材料成本。

著录项

  • 公开/公告号CN107783216A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201711002746.6

  • 发明设计人 戴立伟;赵云飞;

    申请日2017-10-24

  • 分类号

  • 代理机构武汉开元知识产权代理有限公司;

  • 代理人唐正玉

  • 地址 430074 湖北省武汉市东湖高新区高新大道999号未来科技城

  • 入库时间 2023-06-19 04:48:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20171024

    实质审查的生效

  • 2018-03-09

    公开

    公开

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