首页> 中国专利> 消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备

消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

一种消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备，其中方法包括：向腔体充入第一气体；当检测到腔体中的氧气低于预设值时，停止向腔体充入第一气体，同时向腔体中的工作平面上方充入第二气体；第一气体和第二气体均为能够消除氧气对光固化反应过程影响的气体，且第二气体小于第一气体的充入流量值，本发明消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备先通过流量值较大的第一气体的充入尽量将氧气排除干净，而在后续工作过程，通过向腔体中的工作平面上方直接充入流量值较小的第二气体，避免了氧气对光敏树脂表面造成影响，因此，本发明不仅保证了光固化效果，而且充分利用了氮气，同时节约了氮气使用量。

著录项

公开/公告号CN108081597A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-29

原文格式PDF
申请/专利权人湖南华曙高科技有限责任公司;
展开▼

申请/专利号CN201611025334.X
发明设计人许小曙;李清;杨超;杨琢;
展开▼

申请日2016-11-22
分类号B29C64/135(20170101);B29C64/371(20170101);B33Y30/00(20150101);B33Y40/00(20150101);
代理机构
代理人
地址 410205 湖南省长沙市国家高新技术产业开发区林语路181号
入库时间 2023-06-19 05:28:32

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-06-22

实质审查的生效 IPC(主分类):B29C64/135 申请日:20161122

实质审查的生效
2018-05-29

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备 [P] . 中国专利： CN108081597A . 2018-05-29
2. 用于消除振动环境对光测影响的姿态像机系统接力的方法 [P] . 中国专利： CN1584502A . 2005-02-23
3. Light curing molding apparatus, light curing molding method and light curing modeling system [P] . 日本专利： JP3801100B2 . 2006-07-26

机译：光固化成型装置，光固化成型方法及光固化成型系统
4. Apparatus and method for curing of under the influence of light curing plastic resin adhesives [P] . 德国专利： DE3402505A1 . 1984-08-09

机译：在光固化的塑料树脂粘合剂的影响下进行固化的设备和方法
5. Method and system for configuring a device for correcting the effect of a medium on a light signal, method, device and system for correcting said effect [P] . AU2011347385B2 . 2015-03-26

机译：用于配置用于校正介质对光信号的影响的设备的方法和系统，用于校正所述影响的方法，设备和系统