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含氨基梯形结构有机硅氧烷改性聚酰亚胺薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及一种氨基梯形结构有机硅氧烷改性聚酰亚胺薄膜及其制备方法,属于涉及有机硅改性聚酰亚胺材料技术领域。其采用二胺混合物和二酐制备聚酰胺酸溶液,加入一定量的氨基梯形结构有机硅氧烷,将聚酰胺酸溶液通过溶液浇铸、流涎,或者溶液挤出等方式制备成含有有机硅成分的聚酰亚胺薄膜。本发明设计氨基梯形结构有机硅氧烷改性聚酰亚胺材料,是一种高模量、低收缩、低吸水率、化学性能稳定、电绝缘性能优异的综合性有机无机杂化聚合物材料。

著录项

  • 公开/公告号CN108129664A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡创彩光学材料有限公司;

    申请/专利号CN201711420083.X

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2017-12-25

  • 分类号C08G77/455(20060101);C08G73/10(20060101);C08J5/18(20060101);C08L83/10(20060101);

  • 代理机构32104 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人殷红梅;张仕婷

  • 地址 214161 江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园北区金桂路2号景溪工业园

  • 入库时间 2023-06-19 05:34:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08G77/455 申请日:20171225

    实质审查的生效

  • 2018-06-08

    公开

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