法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-24
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B29C64/129 申请公布日:20180706 申请日:20161228
发明专利申请公布后的视为撤回
2018-07-06
公开
公开
机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置
机译: 可以通过插入投影光学系统和液体对基质进行曝光的虚拟曝光基质,一种制造该基质的方法,一种浸入曝光设备以及一种设备制造方法。
机译: 一种适合于投影曝光设备的操作的方法以及相应的投影曝光系统