公开/公告号CN108241574A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-07-03
原文格式PDF
申请/专利权人 航天信息股份有限公司;
申请/专利号CN201611217715.8
发明设计人 何慧娟;
申请日2016-12-26
分类号G06F11/36(20060101);
代理机构11266 北京工信联合知识产权代理有限公司;
代理人郭一斐
地址 100195 北京市海淀区杏石口路甲18号航天信息园
入库时间 2023-06-19 05:49:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F11/36 申请日:20161226
实质审查的生效
2018-07-03
公开
公开
机译: 印刷表面缺陷分析方法,基于其的打印机调整方法,印刷表面缺陷分析系统以及包括此功能的打印机调整系统
机译: 用于印刷表面的缺陷分析方法,基于相同的印刷装置调节方法,以及用于印刷设备的印刷表面缺陷分析系统
机译: 用于半导体工业的光刻掩模光学分析方法,涉及基于共焦和暗场照明期间已定义缺陷的图像的比较,对掩模上的缺陷进行分类