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孪生负载中频交流PECVD沉积DLC涂层的方法

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摘要

本发明公开了一种孪生负载中频交流PECVD沉积DLC涂层的方法，包括真空腔内布置第一组工件和第二组工件，第一组工件中所有工件电连接，第二组工件中所有工件电连接；所述第一组工件和所述第二组工件的相对位置关系应满足条件：通过对第一组工件进行旋转或平移，可使第一组工件和第二组工件有规律地重合；以中频交流电源为等离子体激发源，所述中频交流电源的两极分别连接第一组工件和第二组工件；对真空腔抽真空并通入源气体，开启中频交流电源，采用PECVD在工件上沉积DLC涂层。本发明可避免DLC涂层沉积过程中的放电终止和阳极消失，从而可进一步消除由放电终止和阳极消失导致的工艺波动和产品品质不良。

著录项

公开/公告号CN108251819A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-07-06

原文格式PDF
申请/专利权人温州职业技术学院;
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申请/专利号CN201810065438.6
发明设计人王向红;黄志宏;李士本;吴骥;吴百中;
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申请日2018-01-23
分类号C23C16/26(20060101);C23C16/503(20060101);
代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张火春
地址 325035 浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器
入库时间 2023-06-19 05:51:03

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-07-31

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/26 申请日:20180123

实质审查的生效
2018-07-06

公开

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