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在连续真空中施加多个等离子体涂覆层

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摘要

用于在真空中施加多个等离子体涂覆层的装置和方法，以及由该方法产生的产品。该方法包括在真空室中安置基底和给基底施加多个等离子体涂覆层，而不中断真空。

公开/公告号CN108368603A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-03

原文格式PDF
申请/专利权人沙特基础工业全球技术公司;
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申请/专利号CN201680074362.2
发明设计人 A·塔科尔;H·姚;H·赖;C·刘;Y·牛;S·姜;
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申请日2016-11-28
分类号C23C14/34(20060101);C23C14/56(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/46(20060101);G02B1/00(20060101);H01J37/317(20060101);H01J37/34(20060101);
代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人张全信;赵蓉民
地址荷兰贝亨奥普佐姆
入库时间 2023-06-19 06:32:02

1. 在连续真空中施加多个等离子体涂覆层 [P] . 中国专利： CN108368603A . 2018-08-03
2. 用于将覆层施加到工件上的方法和用于对工件覆层的设备 [P] . 中国专利： CN105848855A . 2016-08-10
3. Apparatus for the application of coating films on substrates in a vacuum [P] . BR8901814A . 1990-11-06

机译：用于在真空中将涂膜施加到基材上的设备
4. Substrate processing system useful for plasma assisted treatment of plate-shaped substrates in the vacuum after the continuous flow principle, comprises one vacuum chamber with a transport device and plasma chemical treatment device [P] . 德国专利： DE102012206975A1 . 2013-01-17

机译：在连续流动原理之后，可用于在真空中对板状基材进行等离子体辅助处理的基材处理系统，包括一个带有传送装置和等离子化学处理装置的真空室
5. device for the continuous application of coatings in vacuum [P] . IT1248977B . 1995-02-11

机译：在真空中连续施加涂料的装置